[發明專利]一種護眼防污式超硬防輻射玻璃及其制備方法

在審

• 申請號: 201710429996.1
• 申請日: 2017-06-09
• 公開（公告）號: CN107285642A
• 公開（公告）日: 2017-10-24
• 發明（設計）人: 沈陽
• 申請（專利權）人: 沈陽
• 主分類號: C03C17/36
• 分類號: C03C17/36;C03C23/00
• 代理公司: 廣州市華學知識產權代理有限公司44245
• 代理人: 張金剛

1.一種防污式護眼防污式超硬防輻射玻璃，其特征在于：包括玻璃基板，玻璃基板下表面設有淡綠色護眼層，玻璃基板為單透結構，玻璃基板上表面開設有若干“S”形孔和“O”形孔，“S”形孔和“O”形孔相鄰，膠體填充在“S”形孔和“O”形孔中，膠體的折射率與玻璃基板的折射率相同，玻璃基板從下到上依次設置第一二氧化鈦層，厚度為15nm；氧化鋁作為納米緩沖層，厚度為8nm，第二二氧化鈦層，厚度66nm；第一Co-Ni-Cr-Al-Y膜層，厚度4nm；Ag膜層，厚度4.5nm；第二Co-Ni-Cr-Al-Y膜層，厚度42nm；氧化硅作為過渡層，厚度38nm；氮化硅作為緩沖納米層，厚度為9nm；氮化碳納米層，厚度為22nm；氮化碳納米層外被含有具有光催化功能的二氧化鈦-二氧化硅的涂層材料包覆，在玻璃表面涂覆含有二氧化鈦-二氧化硅的光催化劑溶液，并在超過在100℃存在硬度提高的臨界溫度、且在接近所述臨界溫度的低溫下加熱，形成涂膜，上述含有二氧化鈦-二氧化硅的光催化劑溶液為，在添加有作為二氧化硅前驅體的原硅酸四乙酯的非晶型二氧化鈦中，進一步添加過氧化氫，進行過氧化而生成的利用過氧鍵將二氧化鈦和二氧化硅結合而成的二氧化鈦-二氧化硅的溶膠體。

2.根據權利要求1所述的防污式護眼防污式超硬防輻射玻璃，其特征在于：所述“S”形孔和“O”形孔的孔徑為98nm。

3.根據權利要求1所述的防污式護眼防污式超硬防輻射玻璃，其特征在于：所述“O”形孔整個孔徑為550nm。

4.根據權利要求1所述的護眼防污式超硬防輻射玻璃，其特征在于：所述膠體為聚甲基丙烯酸甲酯或者環氧基樹脂。

5.根據權利要求1所述的護眼防污式超硬防輻射玻璃，其特征在于：所述膠體與玻璃基板相平齊。

6.根據權利要求1～6任一項所述的護眼防污式超硬防輻射玻璃的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)、取一玻璃基板，玻璃基板下表面設有淡綠色護眼層，玻璃基板上開設有若干“S”形孔和“O”形孔；

(2)、向“S”形孔和“O”形孔內填充膠體，膠體的折射率與所述玻璃基板的折射率相同或相近；

(3)、對膠體進行整平和固化處理；

(4)、在步驟(3)的基體上通過設置條形陽極層離子源的磁控反應濺射鍍層工藝鍍制第一二氧化鈦層、納米緩沖層及第二二氧化鈦層；

(5)、充入Ar，靶材為第一Co-Ni-Cr-Al-Y膜層靶，沉積厚度4nm；

(6)、充入Ar，靶材為Ag靶，在第一Co-Ni-Cr-Al-Y膜上沉積Ag膜，厚度4.5nm；

(7)、充入Ar，靶材為第二Co-Ni-Cr-Al-Y膜層靶，在Ag膜上沉積第二Co-Ni-Cr-Al-Y膜層，厚度42nm；

(8)、通過設置條形陽極層離子源的磁控反應濺射鍍層工藝鍍制過渡層，厚度38nm；氮化硅作為緩沖納米層，厚度為9nm；氮化碳納米層，厚度為22nm；

(9)、氮化碳納米層外被含有具有光催化功能的二氧化鈦-二氧化硅的涂層材料包覆，在玻璃表面涂覆含有二氧化鈦-二氧化硅的光催化劑溶液，并在超過在100℃存在硬度提高的臨界溫度、且在接近所述臨界溫度的低溫下加熱，形成涂膜，上述含有二氧化鈦-二氧化硅的光催化劑溶液為，在添加有作為二氧化硅前驅體的原硅酸四乙酯的非晶型二氧化鈦中，進一步添加過氧化氫，進行過氧化而生成的利用過氧鍵將二氧化鈦和二氧化硅結合而成的二氧化鈦-二氧化硅的溶膠體；加熱溫度為110℃～160℃，形成利用鉛筆法、JIS K5600-5-4測得硬度為6H以上的涂膜，光催化劑溶液含有過氧型二氧化鈦和/或過氧型二氧化鈦-二氧化硅、與銳鈦礦型二氧化鈦和/或銳鈦礦型二氧化鈦-二氧化硅的混合物；光催化劑溶液以7：3～9：1的比例含有過氧型二氧化鈦-二氧化硅與銳鈦礦型二氧化鈦-二氧化硅。

7.根據權利要求6所述的護眼防污式超硬防輻射玻璃的制備方法，其特征在于：所述條形陽極層離子源的磁控反應濺射鍍層工藝，條形陽極層離子源，長度為1500mm，大于濺射靶材的長度，該離子源的基本參數設定為：放電電壓200～500V、束流平均能量大約為放電電壓的55％、放電電流為≤9A、供氣量為160scmm氬氣。