[發(fā)明專利]一種超硬防輻射玻璃及其制備方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710429953.3
• 申請(qǐng)日: 2017-06-09
• 公開（公告）號(hào): CN107285641A
• 公開（公告）日: 2017-10-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 沈陽
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 沈陽
• 主分類號(hào): C03C17/36
• 分類號(hào): C03C17/36
• 代理公司: 廣州市華學(xué)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司44245
• 代理人: 張金剛

1.一種超硬防輻射玻璃，其特征在于：包括玻璃基板，玻璃基板上表面開設(shè)有若干“S”形孔和“O”形孔，“S”形孔和“O”形孔相鄰，膠體填充在“S”形孔和“O”形孔中，膠體的折射率與玻璃基板的折射率相同，玻璃基板從下到上依次設(shè)置第一二氧化鈦層，厚度為15nm；氧化鋁作為納米緩沖層，厚度為8nm，第二二氧化鈦層，厚度66nm；第一Co-Ni-Cr-Al-Y膜層，厚度4nm；Ag膜層，厚度4.5nm；第二Co-Ni-Cr-Al-Y膜層，厚度42nm；氧化硅作為過渡層，厚度38nm；氮化硅作為緩沖納米層，厚度為9nm；氮化碳納米層，厚度為22nm。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超硬防輻射玻璃，其特征在于：所述“S”形孔和“O”形孔的孔徑為98nm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超硬防輻射玻璃，其特征在于：所述“O”形孔整個(gè)孔徑為550nm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超硬防輻射玻璃，其特征在于：所述膠體為聚甲基丙烯酸甲酯或者環(huán)氧基樹脂。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超硬防輻射玻璃，其特征在于：所述膠體與玻璃基板相平齊。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～6任一項(xiàng)所述的超硬防輻射玻璃的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)、取一玻璃基板，玻璃基板上開設(shè)有若干“S”形孔和“O”形孔；

(2)、向“S”形孔和“O”形孔內(nèi)填充膠體，膠體的折射率與所述玻璃基板的折射率相同或相近；

(3)、對(duì)膠體進(jìn)行整平和固化處理；

(4)、在步驟(3)的基體上通過設(shè)置條形陽極層離子源的磁控反應(yīng)濺射鍍層工藝鍍制第一二氧化鈦層、納米緩沖層及第二二氧化鈦層；

(5)、充入Ar，靶材為第一Co-Ni-Cr-Al-Y膜層靶，沉積厚度4nm；

(6)、充入Ar，靶材為Ag靶，在第一Co-Ni-Cr-Al-Y膜上沉積Ag膜，厚度4.5nm；

(7)、充入Ar，靶材為第二Co-Ni-Cr-Al-Y膜層靶，在Ag膜上沉積第二Co-Ni-Cr-Al-Y膜層，厚度42nm；

(8)、通過設(shè)置條形陽極層離子源的磁控反應(yīng)濺射鍍層工藝鍍制過渡層，厚度38nm；氮化硅作為緩沖納米層，厚度為9nm；氮化碳納米層，厚度為22nm。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的超硬防輻射玻璃的制備方法，其特征在于：所述條形陽極層離子源的磁控反應(yīng)濺射鍍層工藝，條形陽極層離子源，長度為1500mm，大于濺射靶材的長度，該離子源的基本參數(shù)設(shè)定為：放電電壓200～500V、束流平均能量大約為放電電壓的55％、放電電流為≤9A、供氣量為160scmm氬氣。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的超硬防輻射玻璃的制備方法，其特征在于：所述鍍制氮化碳鍍層環(huán)節(jié)中用分子泵優(yōu)化排列和靶位隔離形成井噴，從而阻斷氧氣與氮?dú)饣ジZ，保證氮化物純度，獲得穩(wěn)定的氮化碳納米層。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的超硬防輻射玻璃的制備方法，其特征在于：所述步驟(7)中加入1％體積的醋酸。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的超硬防輻射玻璃的制備方法，其特征在于：還包括清洗步驟，采用超聲波振蕩清洗，之后在溫度115℃下進(jìn)行干燥，獲得成品。