[發明專利]基于薄膜厚度測量輔助定位的膜厚監測方法

有效

• 申請號: 201710429669.6
• 申請日: 2017-05-28
• 公開（公告）號: CN107238363B
• 公開（公告）日: 2019-11-05
• 發明（設計）人: 鮑軍民
• 申請（專利權）人: 浙江商業職業技術學院
• 主分類號: G01B21/08
• 分類號: G01B21/08;B41M5/26
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種基于薄膜厚度測量輔助定位的膜厚監測方法，包括以下步驟：

S1)輔助定位刻印初始化，刻印工位調整，等待刻印周期；

S2)執行機構中的刻印單元在由擠出機擠出后冷卻成型的鑄片上刻印V形或U形缺口印記，

其中，所述刻印是在處理單元的指令下，由強度調節單元、調焦單元和驅動單元共同控制執行機構動作而實現，

所述刻印單元采用激光刻印模塊，且設置在用來將從擠出機擠出的薄膜原料熔體貼在激冷輥上的主氣刀的前方，其所刻印的印記由多個深度不同的矩形刻槽組成；

所述激光刻印模塊為兩個，且其刻印頭分別與擠出機模頭兩端部螺栓位置相固定連接，刻印時使得印記的中心點與螺栓中心線沿唇口垂線對齊；

S3)采集單元從測厚儀采集薄膜剖面厚度曲線數據后傳送給處理單元；

S4)處理單元通過對所述曲線的極值點搜索和判斷，分析、計算出各點薄膜厚度和擠出機模頭各螺栓的位置；

S5)數據輸出單元輸出剖面各點厚度值，在厚度曲線上標記各模頭螺栓位置，并在厚度值超出預先設置的范圍時發出警示。

2.根據權利要求1所述的一種基于薄膜厚度測量輔助定位的膜厚監測方法，其特征在于：所述刻印周期由同步單元提供，所述同步單元為驅動單元提供刻印開始的時間信息，使得所有的所述矩形刻槽均能被測厚儀檢測到。

3.根據權利要求1所述的一種基于薄膜厚度測量輔助定位的膜厚監測方法，其特征在于：所述剖面厚度曲線數據是測厚儀輸出并能顯示在一顯示器上的薄膜剖面厚度圖像，所述圖像包括分別以不同顏色表示的一條膜厚曲線、坐標軸和與坐標軸平行的輔助線。

4.根據權利要求1所述的一種基于薄膜厚度測量輔助定位的膜厚監測方法，其特征在于：所述刻印單元包括一個與擠出機模頭唇口平行的導軌以及一個所述激光刻印模塊，所述激光刻印模塊包括一個可沿所述導軌移動的刻印頭，所述導軌上有多個與模頭螺栓有固定位置關系的停靠點。

5.根據權利要求1所述的一種基于薄膜厚度測量輔助定位的膜厚監測方法，其特征在于：所述刻印單元刻印的印記最大深度為所刻印鑄片厚度的0.05至0.1倍。