[發(fā)明專利]一種氪工質(zhì)霍爾推力器放電通道內(nèi)電子和原子參數(shù)的在線監(jiān)測(cè)裝置和方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710423845.5 | 申請(qǐng)日: | 2017-06-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107228829B | 公開(公告)日: | 2019-07-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 朱悉銘;寧中喜;劉晨光;韓星;孟圣峰;王彥飛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 哈爾濱工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01N21/25 | 分類號(hào): | G01N21/25 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標(biāo)事務(wù)所 23109 | 代理人: | 畢雅鳳 |
| 地址: | 150001 黑龍*** | 國(guó)省代碼: | 黑龍江;23 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 工質(zhì) 霍爾 推力 放電 通道 電子 原子 參數(shù) 在線 監(jiān)測(cè) 裝置 方法 | ||
1.一種氪工質(zhì)霍爾推力器放電通道內(nèi)電子和原子參數(shù)的在線監(jiān)測(cè)方法,包括以下步驟:
采用導(dǎo)光管(100)將放電通道中的光導(dǎo)入至光纖(200),光纖(200)連接光譜儀(300),采用光譜儀(300)測(cè)量805.95nm、785.48nm、760.15nm和758.74nm的氪原子譜線強(qiáng)度;根據(jù)上述四種波長(zhǎng)的氪原子譜線強(qiáng)度計(jì)算電子的溫度和氪原子密度:
該方法基于一種氪工質(zhì)霍爾推力器放電通道內(nèi)電子和原子參數(shù)的在線監(jiān)測(cè)裝置實(shí)現(xiàn),該裝置包括導(dǎo)光管(100)、光纖(200)和光譜儀(300);
霍爾推力器放電通道的側(cè)壁開有軸向測(cè)試縫,導(dǎo)光管(100)插入軸向測(cè)試縫,導(dǎo)光管(100)用于將放電通道中的光導(dǎo)入至光纖(200),光纖(200)連接光譜儀(300);
其特征在于,根據(jù)所述四種波長(zhǎng)的氪原子譜線強(qiáng)度計(jì)算電子的溫度和氪原子密度的具體方法為:
計(jì)算第一強(qiáng)度比R1和第二強(qiáng)度比R2;
其中,I1為805.95nm的氪原子譜線強(qiáng)度,I2為785.48nm的氪原子譜線強(qiáng)度,I3為760.15nm的氪原子譜線強(qiáng)度,I4為758.74nm的氪原子譜線強(qiáng)度;
電子的溫度Te為:
Te=-1/x1eV;
氪原子密度n氪為:
n氪=exp(x2)×1013cm-3;
其中,
Y1=lnR1;
Y2=ln(1.0117R2-0.0218)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氪工質(zhì)霍爾推力器放電通道內(nèi)電子和原子參數(shù)的在線監(jiān)測(cè)方法,其特征在于,所述導(dǎo)光管(100)采用空心陶瓷管實(shí)現(xiàn)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種氪工質(zhì)霍爾推力器放電通道內(nèi)電子和原子參數(shù)的在線監(jiān)測(cè)方法,其特征在于,一種氪工質(zhì)霍爾推力器放電通道內(nèi)電子和原子參數(shù)的在線監(jiān)測(cè)裝置還包括連接卡(400)、步進(jìn)電機(jī)(500)和絲杠(600);
連接件(400)將導(dǎo)光管(100)固定在絲杠(600)上,步進(jìn)電機(jī)(500)通過(guò)帶動(dòng)絲杠(600)線性運(yùn)動(dòng),從而實(shí)現(xiàn)帶動(dòng)導(dǎo)光管(100)前后移動(dòng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種氪工質(zhì)霍爾推力器放電通道內(nèi)電子和原子參數(shù)的在線監(jiān)測(cè)方法,其特征在于,所述軸向測(cè)試縫的寬度為3mm-10mm。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于哈爾濱工業(yè)大學(xué),未經(jīng)哈爾濱工業(yè)大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710423845.5/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





