[發(fā)明專利]檢測溶液中高半胱氨酸濃度的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710423717.0 | 申請日: | 2017-06-07 |
| 公開(公告)號: | CN107037111B | 公開(公告)日: | 2019-06-07 |
| 發(fā)明(設計)人: | 肖琦;黃珊;馮萌萌;吳子華 | 申請(專利權)人: | 廣西師范學院 |
| 主分類號: | G01N27/48 | 分類號: | G01N27/48 |
| 代理公司: | 北京遠大卓悅知識產權代理事務所(普通合伙) 11369 | 代理人: | 靳浩 |
| 地址: | 530023 廣西壯*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 檢測 溶液 中高 半胱氨酸 濃度 方法 | ||
1.一種檢測溶液中高半胱氨酸濃度的方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟一、將玻碳電極表面用氨基化石墨烯量子點進行修飾;
步驟二、將經過步驟一處理的玻碳電極作為工作電極組成三電極體系,并浸入已知的不同濃度高半胱氨酸的PBS緩沖溶液中,通過循環(huán)伏安法測出每種濃度高半胱氨酸的PBS緩沖溶液對應的氧化峰電流值;
步驟三、通過步驟二中的數(shù)據(jù)建立高半胱氨酸濃度與氧化峰電流值的關系式,即可根據(jù)測量未知濃度的高半胱氨酸的PBS緩沖溶液的氧化峰電流值計算出溶液中高半胱氨酸的濃度。
2.如權利要求1所述的檢測溶液中高半胱氨酸濃度的方法,其特征在于,步驟一中對玻碳電極進行修飾的具體方法為:
步驟a、將玻碳電極進行打磨清洗后作為工作電極組成一個三電極體系,并浸入氨基化石墨烯量子點溶液,通過循環(huán)伏安法掃描,在玻碳電極表面電沉積氨基化石墨烯量子點;
步驟b、將步驟a處理的玻碳電極取出置于紅外干燥箱中烘干。
3.如權利要求1所述的檢測溶液中高半胱氨酸濃度的方法,其特征在于,步驟二中含不同濃度高半胱氨酸的PBS緩沖溶液中均含有1.0×10-4mol/L的鄰苯二酚。
4.如權利要求1所述的檢測溶液中高半胱氨酸濃度的方法,其特征在于,步驟二中配置含不同濃度高半胱氨酸的PBS緩沖溶液時使用的PBS緩沖溶液的pH值均為7.4,磷酸根濃度均為0.1mol/L。
5.如權利要求1所述的檢測溶液中高半胱氨酸濃度的方法,其特征在于,步驟二中采用循環(huán)伏安法掃描時的各項參數(shù)為:初始電位-0.4V、最高電位1V、最低點位-0.4V、最終電位-0.4V、掃描速率0.05V/s、掃描次數(shù)2次、靈敏度10-4A/V、等待時間為2s。
6.如權利要求2所述的檢測溶液中高半胱氨酸濃度的方法,其特征在于,步驟a中采用循環(huán)伏安法掃描時的各項參數(shù)為:初始電位0V、最高電位1V、最低點位0V、最終電位0V、掃描速率0.1V/s、掃描次數(shù)100次、靈敏度10-4A/V、等待時間為2s。
7.如權利要求2所述的檢測溶液中高半胱氨酸濃度的方法,其特征在于,步驟a中氨基化石墨烯量子點溶液的濃度為2mg/mL。
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