[發明專利]一種基于紋理角度預測模式的HEVC幀內編碼幀差錯掩蓋方法

有效

• 申請號: 201710422719.8
• 申請日: 2017-06-07
• 公開（公告）號: CN107277549B
• 公開（公告）日: 2020-05-12
• 發明（設計）人: 胡棟;范光賓
• 申請（專利權）人: 南京郵電大學
• 主分類號: H04N19/593
• 分類號: H04N19/593;H04N19/61;H04N19/103;H04N19/176;H04N19/154
• 代理公司: 南京知識律師事務所 32207
• 代理人: 李吉寬

1.一種基于紋理角度預測模式的HEVC幀內編碼幀差錯掩蓋方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟A：完成對丟失LCU的檢測及定位；

步驟B：將丟失LCU均分為左上、右上、右下、左下四部分，每部分對應32x32的大小；

步驟C：先處理左上部分，在HEVC標準參考軟件HM中通過getDepth()函數得到該部分上邊及左邊相鄰16個正確接收的4x4小塊的深度信息，并以最大深度確定該部分的劃分；

步驟D：對于劃分的每一個塊，參考相鄰兩個塊的紋理角度模式推測出當前劃分塊可能的紋理角度模式，對于左上部分，根據左邊和上邊塊進行推測，從左上角的塊開始先行后列依次完成該部分所有劃分塊的紋理角度模式推測；

步驟E：完成左上部分所有劃分塊的紋理角度模式判別之后，根據該模式對劃分塊按照幀內預測的方式進行差錯掩蓋，參考像素來自劃分塊左邊及上邊像素；掩蓋順序具體是：從左上角的劃分塊開始先行后列依次完成該部分所有劃分塊的掩蓋；

步驟F：按照步驟C～E所述方式，進行右上部分的掩蓋，其中該部分的參考塊和參考像素位置及掩蓋順序要做相應的改變，具體的該部分和左上部分的關于X軸呈鏡像對稱；

步驟G：按照步驟C～E所述方式，進行右下部分的掩蓋，該部分的參考塊和參考像素位置及掩蓋順序和右上部分的關于Y軸呈鏡像對稱；

步驟H：按照步驟C～E所述方式，進行左下部分的掩蓋，該部分的參考塊和參考像素位置及掩蓋順序和右下部分的關于X軸呈鏡像對稱；

其中上述步驟在做幀內預測掩蓋時，如果參考像素不存在或不可用，就按照HEVC標準進行紋理角度預測時所采取的方式使用最鄰近的像素進行填充。

2.如權利要求1所述的一種基于紋理角度預測模式的HEVC幀內編碼幀差錯掩蓋方法，其特征在于所述以最大深度確定劃分即將該部分劃分為一系列此深度的塊，如果最大深度為0或1，則不進行劃分，直接以32x32的大小進行下一步操作。

3.如權利要求1所述的一種基于紋理角度預測模式的HEVC幀內編碼幀差錯掩蓋方法，其特征在于進行紋理角度模式推測時，如果參考塊是正確接收塊則其紋理角度預測模式由getIntraDir()函數得到；如果參考塊不是正確接收塊，則其紋理角度模式就取已經對其推測得到的模式。

4.如權利要求1所述的一種基于紋理角度預測模式的HEVC幀內編碼幀差錯掩蓋方法，其特征在于進行紋理角度模式推測時紋理角度模式判別方法如下：

(1)若兩個參考塊紋理角度模式相同，就選該模式；

(2)若兩個參考塊的模式分別是DC模式和Planar模式，選Planar模式；

(3)若一個參考塊的模式分別是DC模式或Planar模式，另一個是紋理角度模式，選該紋理角度模式；

(4)若兩個參考塊的預測模式是相鄰的紋理角度模式，選距離主方向近的那個，即如果是垂直模式選靠近垂直方向的，如果是水平模式選靠近水平方向的；

(5)若兩個參考塊的預測模式是不相鄰的紋理角度模式，選中間模式。

5.如權利要求1所述的一種基于紋理角度預測模式的HEVC幀內編碼幀差錯掩蓋方法，其特征在于步驟C中利用幀內預測模式的空域相關性，參考丟失LCU周圍正確接收塊的編碼信息，對當前丟失LCU的劃分模式進行推測，既保證劃分的合理性又會降低復雜度。

6.如權利要求1所述的一種基于紋理角度預測模式的HEVC幀內編碼幀差錯掩蓋方法，其特征在于步驟D中利用空域相關性對劃分塊的紋理角度模式進行判別。

7.如權利要求1所述的一種基于紋理角度預測模式的HEVC幀內編碼幀差錯掩蓋方法，其特征在于步驟E中根據推測出的劃分模式和紋理角度模式對丟失塊進行差錯掩蓋，從而在一定程度上恢復丟失LCU的紋理角度特性，有效提高掩蓋質量。