[發明專利]光致動復合薄膜的制備方法、光致動復合薄膜及光致動器有效
| 申請號: | 201710422042.8 | 申請日: | 2017-06-07 |
| 公開(公告)號: | CN107201996B | 公開(公告)日: | 2019-08-27 |
| 發明(設計)人: | 吳長征;楊波;謝毅 | 申請(專利權)人: | 中國科學技術大學 |
| 主分類號: | F03G7/06 | 分類號: | F03G7/06;F03G7/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 程紓孟 |
| 地址: | 230026 安*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 復合薄膜 致動 發熱膜層 應變膜 氧化石墨 應變層 制備 化學鍵結合 發熱材料 光致動器 基底 涂覆 材料分散 材料通過 第二溶劑 第一溶劑 脫模 | ||
1.一種光致動復合薄膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
將氧化石墨與光致發熱材料分散于第一溶劑中,制備第一膠體;
將有機柔性應變層材料分散于第二溶劑中,制備第二膠體;
將所述第一膠體涂覆在基底上并干燥,得到光致發熱膜層;
將第二膠體涂覆在所述光致發熱膜層上并干燥,形成應變膜層,所述應變膜層與所述光致發熱膜層通過化學鍵結合,形成光致動復合薄膜,
將所述光致動復合薄膜與基底脫模,
其中,所述有機柔性應變層材料選自聚乙烯吡咯烷酮、殼聚糖、聚偏氟乙烯、纖維素、聚二甲基硅氧烷中的一種或多種。
2.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述基底選自玻璃、硅或塑料。
3.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,在涂覆所述第一膠體之前,對所述基底進行親水處理。
4.根據權利要求3所述的制備方法,其特征在于,所述親水處理包括:
配置體積比為5∶1~2∶1的濃硫酸和10~30%過氧化氫水溶液的混合物,
在50至150℃的溫度下,將所述基底放置在所述混合物中0.5至5小時,以及
用去離子水清洗所述基底。
5.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述第一或第二溶劑選自去離子水、環己烷和無水乙醇中的一種或多種。
6.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述光致發熱材料可選自納米氮化鈦、石墨烯、碳納米管、納米氧化鋁、無定型碳、無定型硼、具有等離子體增強效應的光致熱材料中的一種或多種。
7.根據權利要求6所述的制備方法,其特征在于,所述具有等離子體增強效應的光致熱材料選自納米金顆粒、金屬氧化物納米顆粒、雙金屬納米顆粒、過渡金屬硫化物中的一種或多種。
8.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,通過超聲分散制備所述第一和/或第二膠體。
9.用根據權利要求1至8任一項所述的制備方法制備的光致動復合薄膜。
10.一種光致動復合薄膜,其特征在于,所述光致動復合薄膜由光致發熱膜層與應變膜層組成,所述光致發熱膜層包含氧化石墨和光致發熱材料,所述應變膜層包含有機柔性應變層材料,所述氧化石墨與所述有機柔性應變層材料通過化學鍵結合,
其中,所述有機柔性應變層材料選自聚乙烯吡咯烷酮、殼聚糖、聚偏氟乙烯、纖維素、聚二甲基硅氧烷中的一種或多種。
11.根據權利要求10所述的光致動復合薄膜,其特征在于,所述光致發熱材料選自納米氮化鈦、石墨烯、碳納米管、納米氧化鋁、無定型碳、無定型硼、具有等離子體增強效應的光致熱材料中的一種或多種。
12.根據權利要求11所述的光致動復合薄膜,其特征在于,所述具有等離子體增強效應的光致熱材料選自納米金顆粒、金屬氧化物納米顆粒、雙金屬納米顆粒、過渡金屬硫化物中的一種或多種。
13.由權利要求9或10所述的光致動復合薄膜形成的光致動器。
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