[發(fā)明專利]Cr摻雜異質(zhì)結(jié)自旋場(chǎng)效應(yīng)晶體管及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710421686.5 | 申請(qǐng)日: | 2017-06-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107425059B | 公開(公告)日: | 2020-05-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 賈仁需;楊宇;元磊;張玉明;彭博 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 西安電子科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L29/66 | 分類號(hào): | H01L29/66;H01L29/778;H01L29/812 |
| 代理公司: | 西安嘉思特知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 61230 | 代理人: | 劉長(zhǎng)春 |
| 地址: | 710071*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | cr 摻雜 異質(zhì)結(jié) 自旋 場(chǎng)效應(yīng) 晶體管 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種Cr摻雜異質(zhì)結(jié)自旋場(chǎng)效應(yīng)晶體管及其制備方法,其中,制備方法包括:選取藍(lán)寶石襯底;利用MBE工藝在藍(lán)寶石襯底表面生長(zhǎng)Ga2O3外延層;在Ga2O3外延層注入Cr離子形成源區(qū)和漏區(qū);在源區(qū)和漏區(qū)表面制作歐姆接觸源極和漏極;利用PECVD工藝在Ga2O3外延層表面生長(zhǎng)隔離層;在Ga2O3外延層表面制作肖特基接觸柵電極以完成自旋場(chǎng)效應(yīng)晶體管的制備;本發(fā)明提供的Cr摻雜異質(zhì)結(jié)自旋場(chǎng)效應(yīng)晶體管及制備方法,可通過調(diào)節(jié)離子注入的劑量和退火時(shí)間改變?cè)绰┎牧现械膿诫s濃度和缺陷濃度,從而優(yōu)化室溫下材料的自旋極化率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬半導(dǎo)體器件制備技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種利用對(duì)點(diǎn)缺陷Cr離子摻雜Ga2O3制作源漏極注入接收自旋極化電子的異質(zhì)結(jié)高電子遷移率自旋場(chǎng)效應(yīng)晶體管及制備方法。
背景技術(shù)
隨著現(xiàn)代電子技術(shù)的迅速更新,傳統(tǒng)電子器件的發(fā)展,無論是規(guī)模集成還是運(yùn)算速度方面,均嚴(yán)重限制了微電子科學(xué)的發(fā)展。新興的自旋電子學(xué)以便捷地調(diào)控電子自旋為主要目標(biāo),開啟了以利用電子自旋來實(shí)現(xiàn)信息貯存和傳輸?shù)男骂I(lǐng)域,引起物理學(xué),材料學(xué)以及電子信息學(xué)等多科學(xué)領(lǐng)域中研究者的共同關(guān)注和廣泛興趣。
近年來,基于二維電子氣提出的自旋場(chǎng)效應(yīng)管,其理論與實(shí)驗(yàn)研究涉及了電子自旋輸運(yùn)及材料特性等多方面影響的復(fù)雜因素,引起了廣大研究者的關(guān)注與探索。其基本構(gòu)想為通過電光調(diào)制器的電子類比提出所謂的自旋場(chǎng)晶體管。由源極輸入的電子自旋沿x方向,它可以表示為沿z方向正和負(fù)自旋分量的組合,通過電子有效質(zhì)量哈密頓中的Rashba項(xiàng)引起的自旋向上和自旋向下的電子能量分裂,在輸運(yùn)過程中產(chǎn)生電子通過場(chǎng)效應(yīng)管的相位差,在漏極接收到的沿x方向自旋的可以看成沿正負(fù)z方向自旋的電子相位產(chǎn)生變化,從而進(jìn)行電流調(diào)控。而Rashba項(xiàng)中的Rashba系數(shù)Rashba系數(shù)η與異質(zhì)結(jié)界面的電場(chǎng)成正比,因此可以通過加?xùn)艍簛砜刂齐娏鞔笮 ?/p>
但是一般的自旋場(chǎng)效應(yīng)晶體管由鐵磁材料將自旋電子注入到半導(dǎo)體中,由于鐵磁材料如Fe與半導(dǎo)體材料如Sn的能帶結(jié)構(gòu)不匹配使得自旋注入的效率只有百分之幾。
因此,采用何種材料使源漏極以及溝道材料能帶結(jié)構(gòu)匹配從而提高注入效率,在自旋場(chǎng)效應(yīng)晶體管器件的應(yīng)用和研究中變的尤為重要。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的缺陷,提供一種Cr摻雜異質(zhì)結(jié)自旋場(chǎng)效應(yīng)晶體管及其制備方法。本發(fā)明采用的N型摻雜點(diǎn)缺陷Ga2O3材料具有一定的自旋極化效應(yīng),可以替代現(xiàn)有的工藝,提高自旋注入和接收的效率,從而提高器件的性能,優(yōu)化材料在室溫下的自旋極化率。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種Cr摻雜異質(zhì)結(jié)自旋場(chǎng)效應(yīng)晶體管及其制備方法;本發(fā)明要解決的技術(shù)問題通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例提供了一種Cr摻雜異質(zhì)結(jié)自旋場(chǎng)效應(yīng)晶體管的制備方法,包括:
(a)選取藍(lán)寶石襯底;
(b)利用分子束外延(Molecular Beam Epitaxy,MBE)工藝在藍(lán)寶石襯底表面生長(zhǎng)Ga2O3外延層;
(c)在Ga2O3外延層注入Cr離子形成源區(qū)和漏區(qū);
(d)在源區(qū)和漏區(qū)表面制作歐姆接觸源極和漏極;
(e)利用等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(Plasma Enhanced ChemicalVaporDeposition,PECVD)工藝在Ga2O3外延層表面生長(zhǎng)隔離層;
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
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H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
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H01L29-68 ..只能通過對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
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