[發明專利]化學機械研磨機臺、溫度控制系統及其溫度控制方法在審
| 申請號： | 201710420190.6 | 申請日： | 2017-06-06 |
| 公開（公告）號： | CN107088825A | 公開（公告）日： | 2017-08-25 |
| 發明（設計）人： | 王哲;文靜;張傳民;陳建維;倪立華 | 申請（專利權）人： | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/005 | 分類號： | B24B37/005;B24B37/015;B24B37/34 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙)31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 化學 機械 研磨 機臺 溫度 控制系統 及其 控制 方法 | ||
1.一種溫度控制系統，適用于化學機械研磨，其特征在于，包括依次通訊連接的采集單元、控制單元以及執行單元；其中，
所述采集單元用于采集化學機械研磨過程中的研磨墊的溫度信息并反饋給所述控制單元；所述控制單元用于根據所述研磨墊的溫度信息控制所述執行單元的工作狀態；所述執行單元用于對所述研磨墊進行降溫處理，以使所述研磨墊的溫度保持在預定范圍內。
2.如權利要求1所述的溫度控制系統，其特征在于，所述執行單元包括冷卻設備和管道，所述管道的一端與所述冷卻設備連接，另一端位于所述研磨墊的一側；所述冷卻設備用于提供冷卻物質，所述管道用于將所述冷卻物質輸送至所述研磨墊。
3.如權利要求2所述的溫度控制系統，其特征在于，所述冷卻物質為冷卻液。
4.如權利要求1所述的溫度控制系統，其特征在于，所述采集單元為溫度傳感器。
5.如權利要求4所述的溫度控制系統，其特征在于，所述采集單元為多個，多個所述采集單元對稱設置在所述研磨墊周圍。
6.如權利要求5所述的溫度控制系統，其特征在于，所述溫度傳感器為熱敏電阻式或紅外線式溫度傳感器。
7.如權利要求1所述的溫度控制系統，其特征在于，所述預定范圍為30℃～75℃。
8.一種溫度控制方法，適用于化學機械研磨，其特征在于，包括：
采集單元采集化學機械研磨過程中的研磨墊的溫度信息；
控制單元根據所述研磨墊的溫度信息控制執行單元對所述研磨墊進行降溫處理，以使所述研磨墊的溫度保持在預定范圍內。
9.如權利要求8所述的溫度控制方法，其特征在于，所述根據所述研磨墊的溫度信息控制執行單元對所述研磨墊進行降溫處理的步驟包括：向所述研磨墊提供冷卻物質，以對所述研磨墊進行降溫處理。
10.一種化學機械研磨機臺，其特征在于，包括研磨墊以及如權利要求1-7中任一項所述的溫度控制系統。
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