[發(fā)明專利]彩膜基板及其制備方法、顯示面板有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710418842.2 | 申請(qǐng)日: | 2017-06-06 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107065290B | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-08-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 魏雄周;黎敏;熊強(qiáng);劉超;龐家齊;萬(wàn)彬;孫紅雨 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;重慶京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1335 | 分類號(hào): | G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京同達(dá)信恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291 | 代理人: | 郭潤(rùn)湘 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 制備 彩膜基板 光刻膠 子像素單元 顯示面板 黑色矩陣層 襯底基板 顯示器制備 溫變顏料 受熱 不可逆 變色 | ||
本發(fā)明涉及顯示器制備技術(shù)領(lǐng)域,公開(kāi)了一種彩膜基板及其制備方法和顯示面板,用以提高彩膜基板的制備效率,進(jìn)而提高顯示面板的制備效率。彩膜基板的制備方法,包括:提供一襯底基板;在襯底基板上形成黑色矩陣層和多個(gè)第一子像素單元,其中黑色矩陣層和多個(gè)第一子像素單元采用相同材料的光刻膠制備而成,光刻膠的材料包括不可逆溫變顏料,光刻膠受熱后變成黑色,光刻膠未變色前的顏色與第一子像素單元的顏色相同。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示器制備技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種彩膜基板及其制備方法、顯示面板。
背景技術(shù)
目前為了提高顯示面板的透過(guò)率,在傳統(tǒng)的紅、綠、藍(lán)子像素組成的像素單元的基礎(chǔ)上,增加了黃色的子像素,形成紅、綠、藍(lán)、黃四色組成的像素單元,這樣的設(shè)計(jì)無(wú)須多耗費(fèi)電力,就能使得顯示面板實(shí)現(xiàn)更廣闊的色域,和傳統(tǒng)紅、綠、藍(lán)子像素組成的像素單元相比,紅、綠、藍(lán)、黃四色子像素組成的像素單元的密度會(huì)提升30%左右,畫面像素更高,感受更細(xì)膩,可以拉伸藍(lán)色的表現(xiàn)色域,提升藍(lán)色的表現(xiàn)力,增加了黃色,可以提升黃色的表現(xiàn)力,從而提高色域。
但是,紅、綠、藍(lán)、黃四色子像素組成的像素單元帶來(lái)以上優(yōu)點(diǎn)的同時(shí),也增加了彩膜基板的制備時(shí)間,目前的彩膜基板在制備時(shí),需要依次制備黑色矩陣層、黃色子像素單元、紅色子像素單元、綠色子像單元以及藍(lán)色子像素單元,各個(gè)工藝之間需要進(jìn)行光刻膠輸送管路的清洗以及不同顏色的光刻膠的更換,時(shí)間較長(zhǎng),生產(chǎn)效率較低。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種彩膜基板及其制備方法和顯示面板,用以提高彩膜基板的制備效率,進(jìn)而提高顯示面板的制備效率。
為達(dá)到上述目的,本發(fā)明提供以下技術(shù)方案:
本發(fā)明提供了一種彩膜基板的制備方法,包括:
提供一襯底基板;
在所述襯底基板上形成黑色矩陣層和多個(gè)第一子像素單元,其中所述黑色矩陣層和多個(gè)所述第一子像素單元采用相同材料的光刻膠制備而成,所述光刻膠的材料包括不可逆溫變顏料,所述光刻膠受熱后變成黑色,所述光刻膠未變色前的顏色與所述第一子像素單元的顏色相同。
本發(fā)明提供了一種彩膜基板的制備方法,通過(guò)將黑色矩陣層和一子像素單元采用相同材料的光刻膠形成,可以節(jié)省一次清洗輸送管路和切換光刻膠的步驟,通過(guò)對(duì)光刻膠加熱可以使得光刻膠改變顏色,即可以作為子像素單元,又可以作為黑色矩陣層。
故,本發(fā)明提供的彩膜基板的制備方法,具有較高的制備效率。
在一些可選的實(shí)施方式中,所述在所述襯底基板上形成黑色矩陣層和多個(gè)所述第一子像素單元,具體包括:
在所述襯底基板上設(shè)置所述光刻膠以形成光刻膠層;
采用第一掩模板對(duì)所述光刻膠層進(jìn)行曝光、顯影形成圖案層,所述圖案層包含多個(gè)陣列分布的開(kāi)口區(qū)域以及用于形成多個(gè)所述第一子像素單元的條狀保留區(qū)域;
對(duì)所述圖案層除設(shè)定區(qū)域以外的區(qū)域進(jìn)行加熱,形成黑色矩陣層以及多個(gè)間隔分布的所述第一子像素單元,所述設(shè)定區(qū)域位于所述條狀保留區(qū)域內(nèi)且與形成的多個(gè)所述第一子像素單元所在區(qū)域重合。此步驟可以將黑色矩陣層和第一子像素單元同步完成。
在一些可選的實(shí)施方式中,所述第一掩模板包括:遮光區(qū)域和用于形成多個(gè)所述開(kāi)口區(qū)域的透光區(qū)域。采用該掩模板形成的圖案層包括多個(gè)陣列分布的開(kāi)口區(qū)域,還包括條狀保留區(qū)域。
在一些可選的實(shí)施方式中,所述對(duì)所述圖案層除設(shè)定區(qū)域以外的區(qū)域進(jìn)行加熱具體包括:
采用加熱層對(duì)所述圖案層進(jìn)行加熱,所述加熱層與所述設(shè)定區(qū)域?qū)?yīng)的部分為絕熱區(qū)。該絕熱區(qū)可以為缺口,也可以設(shè)置有隔熱層,這樣不被加熱層加熱的部分任然保持原來(lái)的顏色,被加熱層加熱的部分變?yōu)楹谏梢孕纬珊谏仃噷印?/p>
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G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





