[發明專利]一種在集成電路版圖中快速創建陣列標記的方法有效
| 申請號: | 201710417343.1 | 申請日: | 2017-06-06 |
| 公開(公告)號: | CN107203671B | 公開(公告)日: | 2020-10-27 |
| 發明(設計)人: | 馮小輝;劉偉平;張春陽;李起宏;謝光益 | 申請(專利權)人: | 北京華大九天軟件有限公司 |
| 主分類號: | G06F30/31 | 分類號: | G06F30/31 |
| 代理公司: | 北京德崇智捷知識產權代理有限公司 11467 | 代理人: | 王金雙 |
| 地址: | 100102 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 集成電路 版圖 快速 創建 陣列 標記 方法 | ||
1.一種在集成電路版圖中快速創建陣列標記的方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)根據首個陣列標記,以及陣列標記的行數,得到對應行數的一維列陣列標記;
(2)根據一維列陣列標記的行間距,以及陣列標記的列數,得到對應行間距的二維陣列標記;
所述步驟(2)是將一維列陣列標記的行間距代入陣列一維計算模塊中,以及將陣列標記的列數代入陣列二維計算模塊中,得到對應行間距的二維陣列標記;
所述陣列二維計算模塊,是基于數學公式(X1-X0)*1、(X2-X1)*2、(X3-X2)*3……(Xm-X(m-1))*m建立的數學計算模型,
其中,“X1”為第1列陣列標記的X方向坐標,“X0”為第0列陣列標記的X方向坐標,“X3”為第3列陣列標記的X方向坐標,“X2”為第2列陣列標記的X方向坐標,……,“Xm”為第m列陣列標記的X方向坐標,“X(m-1)”為第m-1列陣列標記的X方向坐標,“m”為陣列標記的X方向的列數;
(3)將陣列標記的列間距代入陣列二維計算模塊中,得到對應列間距的二維陣列標記。
2.根據權利要求1所述在集成電路版圖中快速創建陣列標記的方法,其特征在于,所述步驟(1)是將首個陣列標記,以及陣列標記的行數代入陣列一維計算模塊中,得到對應行數的一維列陣列標記;
所述陣列一維計算模塊,是基于數學公式(Y1-Y0)*1、(Y2-Y1)*2、(Y3-Y2)*3……(Yn-Y(n-1))*n建立的數學計算模型,
其中,“Y1”為第1行陣列標記的Y方向坐標,“Y0”為第0行陣列標記的Y方向坐標,“Y3”為第3行陣列標記的Y方向坐標,“Y2”為第2行陣列標記的Y方向坐標,……,“Yn”為第n行陣列標記的Y方向坐標,“Y(n-1)”為第n-1行陣列標記的Y方向坐標,“n”為陣列標記的Y方向的行數。
3.根據權利要求1所述在集成電路版圖中快速創建陣列標記的方法,其特征在于,進一步還包括步驟:根據一維陣列標記之間的夾角,得到非正交模式陣列標記。
4.根據權利要求3所述在集成電路版圖中快速創建陣列標記的方法,其特征在于,所述根據一維陣列標記之間的夾角,得到非正交模式陣列標記是,將一維陣列標記之間的夾角代入陣列模型(ΔX,ΔY)*k中,得到非正交模式陣列標記,
其中,“ΔX”為陣列標記的X方向相對坐標,“ΔY”為陣列標記的Y方向相對坐標,“k”為陣列標記的坐標數值。
5.根據權利要求1所述在集成電路版圖中快速創建陣列標記的方法,其特征在于,還包括步驟:為陣列標記配置BBox盒子,創建標記時,先將標記放入BBox盒子中。
6.根據權利要求5所述在集成電路版圖中快速創建陣列標記的方法,其特征在于,進一步還包括步驟:在BBox盒子中以九宮格的形式顯現預設的首個陣列標記在預創建的陣列標記中的初始位置。
7.根據權利要求5所述在集成電路版圖中快速創建陣列標記的方法,其特征在于,進一步還包括步驟:計算出陣列標記的BBox大小,作為預創建的陣列標記的范圍,再選中觸控單元中預創建陣列標記的位置,在版圖中顯現陣列標記。
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