[發明專利]用于顯微成像粒子分析的粒子成像室和聚焦系統

有效

• 申請號: 201710417271.0
• 申請日: 2017-06-06
• 公開（公告）號: CN107144520B
• 公開（公告）日: 2020-05-05
• 發明（設計）人: 楊洪武;牛振興;王達;劉磊;劉博通;王峰;陳廣宇;其他發明人請求不公開姓名
• 申請（專利權）人: 深圳小孚醫療科技有限公司
• 主分類號: G01N15/14
• 分類號: G01N15/14
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種粒子成像室，其特征在于，在所述粒子成像室的成像區域劃分第一成像目標區、第二成像目標區，所述第一成像目標區內的不屬于所述第二成像目標區的部分為第三成像目標區，在所述第三成像目標區內設有聚焦標靶；所述第一成像目標區、第二成像目標區、第三成像目標區通過顯微成像鏡組成像于相機的感光芯片上的第一成像像素區、第二成像像素區、第三成像像素區，所述第一分辨率圖像與所述第二分辨率圖像取景于所述相機的感光芯片的不同區域；所述聚焦標靶通過顯微成像鏡組成像于相機的感光芯片上的第三成像像素區；所述聚焦標靶設置于所述粒子成像室的液體通道的側壁表面或通道內部。

2.如權利要求1所述的粒子成像室，其特征在于，所述聚焦標靶設置于所述粒子成像室的液體通道的內部。

3.如權利要求1所述的粒子成像室，其特征在于，所述聚焦標靶設置于所述粒子成像室的液體通道的單個側壁的內表面或外表面。

4.如權利要求1所述的粒子成像室，其特征在于，所述聚焦標靶設置于所述粒子成像室的液體通道的兩個側壁的內表面。

5.如權利要求1所述的粒子成像室，其特征在于，所述聚焦標靶采用點、線、圖案、字母、數字、標尺、方框。

6.如權利要求5所述的粒子成像室，其特征在于，所述聚焦標靶在平面內的X方向或Y方向中至少一個方向上具有多個標靶圖案或一個標靶圖案在至少一個方向上具有較大尺寸；所述X方向指的是所述平面內的水平方向；所述Y方向指的是所述平面內的豎直方向；所述較大尺寸是指所述聚焦標靶在所述第一分辨率圖像的標靶像占據不小于圖像邊界1/5的尺寸。

7.如權利要求1或6所述的粒子成像室，其特征在于，設置在不同的所述平面內的所述聚焦標靶具有不相同的特征，所述特征包括數量、位置、圖案形狀。