[發明專利]一種精確控制淋酸壓輥的裝置有效
| 申請號: | 201710415681.1 | 申請日: | 2017-06-05 |
| 公開(公告)號: | CN107195860B | 公開(公告)日: | 2019-12-06 |
| 發明(設計)人: | 朱軍平;吳鑫 | 申請(專利權)人: | 超威電源有限公司 |
| 主分類號: | H01M4/04 | 分類號: | H01M4/04;H01M4/20 |
| 代理公司: | 33109 杭州杭誠專利事務所有限公司 | 代理人: | 尉偉敏<國際申請>=<國際公布>=<進入 |
| 地址: | 313100 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 精確 控制 淋酸壓輥 裝置 | ||
1.一種精確控制淋酸壓輥的裝置,包括極板輸送帶、位于極板輸送帶上方的淋酸壓輥及位于極板輸送帶下方的支撐輥,支撐輥位于淋酸壓輥的正下方,淋酸壓輥與極板輸送帶上表面接觸,支撐輥與極板輸送帶下表面接觸,淋酸壓輥包括輥軸及轉動設置在輥軸上的輥筒,其特征是,還包括:
機架;
壓力調節裝置,壓力調節裝置包括設置在機架上的豎直調壓缸體、滑動設置在豎直調壓缸體內的調壓活塞、滑動設置在豎直調壓缸體內并位于調壓活塞上方的壓柱塊、位于調壓活塞與壓柱塊之間的壓縮彈簧、設置在豎直調壓缸體上端的豎直螺孔、設置在豎直螺孔內的壓力調節螺栓及設置在豎直調壓缸體的下端的調壓缸體接口,壓力調節螺栓的下端抵靠在壓柱塊的上表面上;以及
均衡式壓輥支撐裝置,均衡式壓輥支撐裝置包括兩個支撐機構,支撐機構包括設置在機架上的豎直支撐缸體、滑動設置在豎直支撐缸體內的支撐活塞、設置在支撐活塞下端面上的豎直支撐桿、設置在豎直支撐缸體的上端的支撐缸體接口及設置在豎直支撐缸體的下端的支撐桿過孔,豎直支撐桿的下端穿過支撐桿過孔并位于豎直支撐缸體的下方,
兩個支撐機構的支撐缸體接口通過第一連接管相連接,調壓缸體接口與第一連接管之間通過第二連接管相連接;所述支撐機構位于輥軸的上方,輥筒位于兩個支撐機構的豎直支撐桿之間,且其中一個支撐機構的豎直支撐桿的下端與輥軸的一端相連接,另一個支撐機構的豎直支撐桿的下端與輥軸的另一端相連接;
所述壓力調節裝置位于淋酸壓輥的上方。
2.根據權利要求1所述的一種精確控制淋酸壓輥的裝置,其特征是,所述豎直調壓缸體的外側面下部設有壓力檢測接口,壓力檢測接口位于調壓活塞的下方,壓力檢測接口上設有壓力檢測表。
3.根據權利要求1所述的一種精確控制淋酸壓輥的裝置,其特征是,所述豎直調壓缸體的內側面上并位于壓力檢測接口的上方設有內限位塊,調壓活塞位于內限位塊的上方。
4.根據權利要求1所述的一種精確控制淋酸壓輥的裝置,其特征是,所述調壓缸體接口上設有開關閥門。
5.根據權利要求1所述的一種精確控制淋酸壓輥的裝置,其特征是,所述壓力調節螺栓的上端設有操作旋鈕。
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