[發明專利]一種陶瓷表面拋光修復工藝

有效

• 申請號: 201710414102.1
• 申請日: 2017-06-05
• 公開（公告）號: CN107088821B
• 公開（公告）日: 2019-04-02
• 發明（設計）人: 鄭輝
• 申請（專利權）人: 安徽省亞歐陶瓷有限責任公司
• 主分類號: B24B29/02
• 分類號: B24B29/02;B28B11/00;B28B11/04
• 代理公司: 安徽合肥華信知識產權代理有限公司 34112
• 代理人: 余成俊

本發明公開了一種陶瓷表面拋光修復工藝，包括拋光和修復過程，在拋光過程中采用碳納米管?微納米級的氮化硅磨料配合作為拋光液的功能性組分，在磨輪機械作用下實現工件的高性能拋光處理，光潔度高，同時納米量級的碳納米管會滲透到工件的裂紋中，對裂紋有一定的修補作用；拋光后的工件再經過聚多巴胺膜包覆處理，并以聚多巴胺為載體，接枝有機金屬骨架材料，然后再將工件進行熱處理，得到表面粘附多孔炭的陶瓷工件，然后用氧化硼醇溶液對工件表面進行修復，氧化硼在600?650℃條件下變成液體，滲入多孔炭骨架及工件內部的裂紋中，然后再升溫至800?900℃，實現裂紋的愈合，從而達到修復作用。

技術領域

本發明涉及陶瓷拋光技術領域，尤其涉及一種陶瓷表面拋光修復工藝。

背景技術

由于陶瓷在燒結過程中會出現瓷磚表面變形、不平整、波浪邊、隱性裂紋等缺陷，出窯后的粗品需要經過磨邊、刮平、粗磨、拋光、鍍膜等工序，其中拋光加工后的陶瓷表面光滑平整度是影響瓷磚表面質量的關鍵工序。常規的釉質陶瓷表面拋光方法是采用高速旋轉的磨輪和冷卻液配合，在一定壓力下對陶瓷釉面進行研磨拋光，傳統的拋光方法主要存在平整度差、光度較差，不當的震動和研磨使得釉面容易產生較大的裂紋，導致陶瓷在使用過程中脆性大、表面釉層脫落，嚴重影響產品性能。

發明內容

本發明為了彌補已有技術的缺陷，提供一種陶瓷表面拋光修復工藝。

本發明是通過以下技術方案實現的：

一種陶瓷表面拋光修復工藝，具體步驟如下：

（1）拋光：采用拋光液與磨輪配合對陶瓷工件表面進行研磨拋光，拋光結束后將拋光面清洗、干燥；

（2）預處理：將拋光后的工件送入鹽酸多巴胺溶液中，振蕩浸泡處理15-24h后取出，用去離子水清洗2-3遍后送入溫度為60-65℃的金屬鹽水溶液，保溫振蕩反應30-50min后靜置 1-5h，隨后加入有機配體，在同樣溫度下繼續振蕩反應10-15h后取出工件，用去離子水洗滌 3-5次后真空干燥處理，最后將干燥后的工件送入電爐中，升溫至300-450℃，保溫1-5h后出料，自然冷卻至室溫；

（3）修復：配制修復液，將修復液均勻噴涂到預處理后的工件表面，然后將工件送入電爐中，在氮氣氛圍下先升溫至600-650℃，保溫20-30min后再升溫至800-900℃，保溫0.5-1h 后出料，經冷卻、清洗、干燥，即得經拋光修復處理后的陶瓷產品。

所述的拋光液是由碳納米管、微納米氮化硅磨料、表面活性劑、水四者按照0.1:（10-50）：0.1:（120-200）的重量比配制而成。

所述的磨輪的轉速為500-3000轉/min，施加于工件表面的壓力為0.5-6kg/cm²。

所述步驟（2）中鹽酸多巴胺溶液的濃度為0.5-5%，pH值為8.3-8.5。

所述步驟（2）中金屬鹽水溶液是由硝酸鋅、硝酸鋰、硝酸鉬中的一種與去離子水配制而成，濃度為15-50g/L。

所述步驟（2）中的有機配體為2-甲基咪唑。

所述步驟（3）中的修復液是由氧化硼-乙醇溶液，其濃度為1-50g/L。