[發(fā)明專利]顯示面板測試設(shè)備及測試方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710413601.9 | 申請日: | 2017-06-05 |
| 公開(公告)號: | CN107193139B | 公開(公告)日: | 2020-04-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 杜永剛;徐國華;張翼;吳斌;曾鵬;秦衛(wèi) | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;合肥京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13 | 分類號: | G02F1/13 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243 | 代理人: | 許靜;劉偉 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 測試 設(shè)備 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種顯示面板測試設(shè)備,基臺,包括用于承載面板的彈性承載區(qū)域;旋轉(zhuǎn)裝置,與基臺連接,用于控制基臺在水平面旋轉(zhuǎn)第一預(yù)設(shè)角度,第一預(yù)設(shè)角度大于等于0度;施壓裝置,包括設(shè)置于基臺上用于承載面板的第一側(cè)、能夠?qū)γ姘迨┘拥谝环较虻牧Φ膲侯^,第一方向與豎直方向之間具有第二預(yù)設(shè)角度;壓力感應(yīng)裝置,與施壓裝置連接、能夠感應(yīng)壓頭對面板施加的力的大??;光源,設(shè)置于基臺上用于承載面板的第一側(cè),用于對面板的受力位置提供透射光;光檢裝置,設(shè)置于基臺上與第一側(cè)相對的第二側(cè)、用于獲取施壓裝置對面板施壓產(chǎn)生的圖像信息;處理裝置,用于根據(jù)圖像信息確定面板產(chǎn)生不良的臨界條件。本發(fā)明還涉及一種顯示面板測試方法。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及液晶產(chǎn)品制作技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種顯示面板測試設(shè)備及測試方法。
背景技術(shù)
為了維持薄膜晶體管液晶顯示器(Thin Film Transistor Liquid CrystalDisplay,簡稱TFT-LCD)的彩膜基板和陣列基板之間的盒厚,通常在液晶面板CF側(cè)制作柱形隔墊物(Post Spacer,簡稱PS)以保持盒厚一致。柱形隔墊物PS通常包括較高的主隔墊物Main PS和較低的副隔墊物Sub PS。
在實際生產(chǎn)作業(yè)中,因為液晶面板受到各種不可控的外力,Main PS產(chǎn)生滑動,使Main PS所在的亞像素配向膜損傷,在黑畫面下產(chǎn)生像素漏光,即PS Mura不良。
目前沒有PS Mura的評價基準(zhǔn),在新產(chǎn)品PS Mura風(fēng)險評估和不良改善過程中,無法準(zhǔn)確評價產(chǎn)品PS Mura的風(fēng)險水平,只能采用投入大量驗證品,通過驗證品PS Mura不良率的方法來評價風(fēng)險,此種方法的問題主要有:
成本高昂:為了減小數(shù)據(jù)統(tǒng)計的偶然性,需要投入大量產(chǎn)品比較不同生產(chǎn)條件的PS Mura發(fā)生率,每次驗證需要耗費大量的物料和加工費,并占用產(chǎn)線量產(chǎn)實際,使正常量產(chǎn)產(chǎn)能降低,損失較大。
時間周期長:PS Mura可能的發(fā)生工序很多,從Cell對盒后-Cut-減薄-ET-模組等各個工序都可能會產(chǎn)生PS Mura,所以統(tǒng)計PS Mura的發(fā)生率需要等待產(chǎn)品完全完成模組制作及信息電算,才能統(tǒng)計出準(zhǔn)確的良率對比,時間成本較大。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種顯示面板測試設(shè)備及測試方法,快速、準(zhǔn)確的確定出現(xiàn)PS Mura的條件。
為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:一種顯示面板測試設(shè)備,包括:
基臺,包括用于承載面板的彈性承載區(qū)域;
旋轉(zhuǎn)裝置,與所述基臺連接,用于控制所述基臺在水平面旋轉(zhuǎn)第一預(yù)設(shè)角度,所述第一預(yù)設(shè)角度大于等于0度;
施壓裝置,包括設(shè)置于所述基臺上用于承載面板的第一側(cè)、能夠?qū)γ姘迨┘拥谝环较虻牧Φ膲侯^,所述第一方向與豎直方向之間具有第二預(yù)設(shè)角度;
壓力感應(yīng)裝置,與所述施壓裝置連接、能夠感應(yīng)所述壓頭對面板施加的力的大小;
光源,設(shè)置于所述基臺上用于承載面板的所述第一側(cè),用于對面板的受力位置提供透射光;
光檢裝置,設(shè)置于所述基臺上與所述第一側(cè)相對的第二側(cè)、用于獲取所述施壓裝置對面板施壓產(chǎn)生的圖像信息;
處理裝置,用于根據(jù)所述圖像信息確定面板產(chǎn)生灰度不良的臨界條件。
進(jìn)一步的,所述光檢裝置包括:
灰度檢測單元,用于檢測面板受力位置的灰度變化;
圖像攝取單元,用于在面板的受力位置的灰度上升幅度超出預(yù)設(shè)范圍時、獲取面板受力位置的微觀圖片。
進(jìn)一步的,所述處理裝置包括:
第一處理單元,用于將所述微觀圖片與不良樣本圖片進(jìn)行對比;
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
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- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





