[發(fā)明專利]一種陣列基板及其制作方法、液晶顯示面板

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710413393.2
• 申請(qǐng)日: 2017-06-05
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107240589A
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-10-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 甘啟明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): H01L27/12
• 分類號(hào): H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1362
• 代理公司: 深圳市威世博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)44280
• 代理人: 鐘子敏

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種陣列基板及其制作方法、液晶顯示面板。

背景技術(shù)

顯示行業(yè)一直將提高顯示品質(zhì)，降低生產(chǎn)成本作為制勝的關(guān)鍵因素。并且隨著技術(shù)的發(fā)展，各種工藝技術(shù)也在不斷的提高，所能進(jìn)行的工藝精細(xì)程度也越來(lái)越高，這體現(xiàn)在像素的關(guān)鍵尺寸可以越做越小。并且人們追求顯示品質(zhì)也有了一定的改變，不再單純追求高亮度高度比，而對(duì)視角、色彩空間加更注重。

在這些顯示技術(shù)中，IPS(橫向電場(chǎng)效應(yīng)顯示技術(shù))無(wú)疑是一個(gè)非常好的選擇。但是傳統(tǒng)的IPS像素工藝制程相對(duì)比較多，至少需要四道制程，包括M1(第一金屬層)、active layer(有源層)與M2(第二金屬層)、PV(有機(jī)層)及像素電極。這對(duì)于大量生產(chǎn)來(lái)說(shuō)，成本也就相對(duì)比較高。半導(dǎo)體顯示技術(shù)如果減少制程道次，相對(duì)來(lái)說(shuō)就能降低生產(chǎn)成本。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明主要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種陣列基板及其制作方法、液晶顯示面板，能夠在陣列基板的制作制程中只需要兩道光罩，提高了生產(chǎn)效率，降低了產(chǎn)品生產(chǎn)的成本。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是：提供一種陣列基板的制作方法，該制作方法包括：在基板上制作第一金屬層；采用第一張光罩對(duì)第一金屬層進(jìn)行刻蝕工藝以形成柵極和公共電極；在第一金屬層上依次制作柵極絕緣層、有源層和第二金屬層；采用第二張光罩對(duì)第二金屬層和有源層進(jìn)行刻蝕工藝以形成源極、漏極和像素電極。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用的另一個(gè)技術(shù)方案是：提供一種陣列基板，該陣列基板包括依次層疊形成的第一金屬層，柵極絕緣層、有源層以及第二金屬層；其中，第一金屬層包括柵極和公共電極，第二金屬層包括源極、漏極和像素電極。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用的另一個(gè)技術(shù)方案是：提供一種液晶顯示面板，該液晶顯示面板包括陣列基板、彩膜基板以及陣列基板和彩膜基板之間的液晶層，其中，陣列基板是采用如上的制作方法制得，或是如上的陣列基板。

本發(fā)明的有益效果是：區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的情況，本發(fā)明的陣列基板的制作方法包括：在基板上制作第一金屬層；采用第一張光罩對(duì)第一金屬層進(jìn)行刻蝕工藝以形成柵極和公共電極；在第一金屬層上依次制作柵極絕緣層、有源層和第二金屬層；采用第二張光罩對(duì)第二金屬層和有源層進(jìn)行刻蝕工藝以形成源極、漏極和像素電極。通過(guò)上述方式，整個(gè)陣列基板的制作制程只需要兩道光罩，提高了生產(chǎn)效率，降低了產(chǎn)品生產(chǎn)的成本。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明提供的陣列基板一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本發(fā)明提供的陣列基板的制作方法一實(shí)施例的流程示意圖；

圖3-圖6是本發(fā)明提供的陣列基板的制作方法一實(shí)施例中步驟S21-S22的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖7是本發(fā)明提供的陣列基板的制作方法一實(shí)施例中步驟S23的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖8-圖13是本發(fā)明提供的陣列基板的制作方法一實(shí)施例中步驟S24的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖14是本發(fā)明提供的陣列基板的制作方法一實(shí)施例的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖15是本發(fā)明提供的液晶顯示面板一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

參閱圖1，圖1是本發(fā)明陣列基板一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖，該陣列基板包括依次層疊設(shè)置在基板10上的第一金屬層11、柵極絕緣層12、有源層以及第二金屬層15。

其中，有源層包括半導(dǎo)體層13以及離子注入層14。

其中，第一金屬層11包括柵極111和公共電極112，第二金屬層15包括源極151、漏極152和像素電極153。

具體地，第一金屬層11在第一張光罩下被刻蝕形成柵極111和公共電極112，第二金屬層15在第二張光罩下被刻蝕形成源極151、漏極152和像素電極153。

其中，第二金屬層15為抗氧化金屬層，且第二金屬層15裸露在陣列基板與彩膜基板之間的液晶層中。

下面參閱圖2的流程示意圖以及圖3-圖13的結(jié)構(gòu)示意圖，對(duì)上述陣列基板的制作方法進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。

如圖2所示，該陣列基板的制作方法包括：

S21：在基板上制作第一金屬層。

S22：采用第一張光罩對(duì)第一金屬層進(jìn)行刻蝕工藝以形成柵極和公共電極。

基板10可以是透明的玻璃基板，也可以是透明的塑料基板；第一金屬層可以采用Pt、Ru、Au、Ag、Mo、Cr、Al、Ta、Ti或W中的一種金屬或多種金屬的合金。