[發明專利]鏡頭控制設備及其控制方法

有效

• 申請號: 201710412716.6
• 申請日: 2017-05-31
• 公開（公告）號: CN107454311B
• 公開（公告）日: 2020-09-29
• 發明（設計）人: 丸山直樹
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: H04N5/232
• 分類號: H04N5/232;H04N5/225
• 代理公司: 北京魏啟學律師事務所 11398
• 代理人: 魏啟學

本發明涉及一種鏡頭控制設備及其控制方法。在攝像設備中，控制單元基于校正量來控制鏡頭的驅動，其中所述校正量是根據溫度檢測單元所獲取的溫度變化以及鏡頭的校正系數來計算的。

技術領域

本發明大體涉及攝像鏡頭設備的鏡頭控制，尤其涉及由溫度變化所引起的鏡頭離焦的校正及其控制方法。

背景技術

由溫度變化所導致的鏡筒的變形，是諸如照相機等的攝像設備中的調焦透鏡的位置偏差的已知原因之一。

在日本專利特開2003-232986中，基于溫度、變焦倍率和相對于變焦倍率的調焦透鏡位置的溫度校正數據，獲得與調焦透鏡的無限遠距離位置相對應的位置的校正值。然后，基于這樣所獲得的校正值和與調焦透鏡的無限遠距離位置相對應的位置，執行調焦透鏡驅動控制。通過上述技術，可以校正由溫度變化所引起的調焦透鏡的位置偏差。

然而，在日本專利特開2003-232986所述的技術中，仍然存在各種問題。

例如，日本專利特開2003-232986沒有考慮下面的情況：特定材料的膨脹和收縮根據溫度在上升或者下降之后是否達到了特定的度數而改變，而且調焦透鏡的位置偏差還根據構件的膨脹和收縮如何發生而改變。因此，在日本專利特開2003-232986所述的技術中，出現下面的問題。

更具體地，盡管在例如溫度從0℃到25℃的情況和溫度從50℃到25℃的情況之間，溫度達到了相同度數，但是存在可能或者不可能徹底校正由調焦透鏡的位置偏差所導致的離焦的情況。

此外，例如，即使一個調焦透鏡的位置偏差可以被高精度校正，也可能存在不能徹底校正另一調焦透鏡的位置偏差的情況。這是因為沒有考慮下面的情況：調焦透鏡的位置偏差可能根據構件的膨脹和收縮在不同的各透鏡中如何發生而改變。

發明內容

本發明旨在一種能夠執行鏡頭控制的鏡頭控制設備及其控制方法，其中，通過該鏡頭控制，將由溫度變化所引起的離焦校正至更接近原始聚焦狀態的聚焦狀態。

根據本發明的一個方面，一種鏡頭控制設備，其包括：溫度檢測單元，用于檢測溫度；第一計算單元，用于根據通過所述溫度檢測單元所檢測到的多個溫度來計算溫度變化量；存儲單元，用于存儲與鏡頭相對應的系數數據；第二計算單元，用于基于所述第一計算單元的計算結果和所述存儲單元中存儲的系數來計算校正量；以及鏡頭控制單元，用于基于所述校正量來控制所述鏡頭的鏡頭驅動。

根據本發明的另一個方面，一種鏡頭控制設備的控制方法，其中，所述鏡頭能夠以能夠拆卸的方式安裝至所述鏡頭控制設備，所述控制方法包括以下步驟：溫度檢測步驟，用于檢測溫度；第一計算步驟，用于根據所述溫度檢測步驟所檢測出的多個溫度來計算溫度變化量；存儲步驟，用于存儲與鏡頭相對應的系數數據；第二計算步驟，用于基于所述第一計算步驟的計算結果和所述存儲步驟中存儲的系數來計算校正量；以及控制步驟，用于基于所述校正量來控制所述鏡頭的鏡頭驅動。

通過以下參考附圖對典型實施例的說明，本發明的其它特征將變得明顯。

附圖說明

圖1是示出鏡筒的示意圖。

圖2是示出攝像設備的結構示例的圖。

圖3是示出根據第一典型實施例的焦點位置校正處理的流程圖。

圖4是示出根據第二典型實施例的焦點位置校正參數(校正系數K)的選擇處理的流程圖。

圖5是示出根據第三典型實施例的焦點位置校正參數(校正系數K)的選擇處理的流程圖。

圖6是示出根據第四典型實施例的高溫處理的判斷處理的流程圖。

圖7A、7B和7C示出通過這里所述的各種實施例來解決的離焦的示例性原因。