[發(fā)明專利]太赫茲基片集成波導(dǎo)?微帶過(guò)渡結(jié)構(gòu)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710405692.1 | 申請(qǐng)日: | 2017-06-01 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107342446A | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-11-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王志輝 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 西南電子技術(shù)研究所(中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第十研究所) |
| 主分類號(hào): | H01P5/08 | 分類號(hào): | H01P5/08 |
| 代理公司: | 成飛(集團(tuán))公司專利中心51121 | 代理人: | 郭純武 |
| 地址: | 610036 四川*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 赫茲 集成 波導(dǎo) 微帶 過(guò)渡 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種太赫茲基片集成波導(dǎo)-微帶過(guò)渡結(jié)構(gòu),包括設(shè)置在基片集成波導(dǎo)(1)矩形體面上的單層介質(zhì)基片(2)、金屬化通孔陣列(3)和通過(guò)平面微帶(5)傳輸射頻信號(hào)的射頻輸出口(6),其特征在于:金屬化通孔陣列(3)按線陣排列在基片集成波導(dǎo)(1)矩形體長(zhǎng)度方向的兩邊,在所述矩形體一側(cè)寬邊對(duì)接射頻輸出口(6)凸臺(tái)結(jié)合體的共面板面上,設(shè)有同側(cè)相連平面微帶(5)的多層漸變基片集成波導(dǎo)過(guò)渡結(jié)構(gòu)(4);太赫茲信號(hào)從基片集成波導(dǎo)(1)的自由端輸入,將太赫茲信號(hào)能量耦合于單層介質(zhì)基片(2)的介質(zhì)層,通過(guò)一段多層漸變基片集成波導(dǎo)過(guò)渡結(jié)構(gòu)互連平面微帶(5)傳輸寬帶太赫茲信號(hào),太赫茲信號(hào)以多層漸變基片集成波導(dǎo)過(guò)渡結(jié)構(gòu)(4)作為輸入,通過(guò)多層漸變基片集成波導(dǎo)過(guò)渡結(jié)構(gòu)(4)將基片集成波導(dǎo)(1)的TE10模轉(zhuǎn)變?yōu)槠矫嫖?5)的TEM模,對(duì)基片集成波導(dǎo)(1)與平面微帶(5)的阻抗進(jìn)行匹配,最后通過(guò)射頻輸出口(6)輸出。
2.如權(quán)利要求1所述的太赫茲基片集成波導(dǎo)-微帶過(guò)渡結(jié)構(gòu),其特征在于:基片集成波導(dǎo)(1)是由在單層介質(zhì)基片(2)上利用金屬化通孔陣列(3)來(lái)實(shí)現(xiàn)的。
3.如權(quán)利要求1所述的太赫茲基片集成波導(dǎo)-微帶過(guò)渡結(jié)構(gòu),其特征在于:基片集成波導(dǎo)(1)作為太赫茲射頻信號(hào)輸入端,它的傳輸主模與標(biāo)準(zhǔn)矩形波導(dǎo)相同。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于西南電子技術(shù)研究所(中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第十研究所),未經(jīng)西南電子技術(shù)研究所(中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第十研究所)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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