[發明專利]光學成像系統有效
| 申請號: | 201710405176.9 | 申請日: | 2017-06-01 |
| 公開(公告)號: | CN107589520B | 公開(公告)日: | 2020-05-19 |
| 發明(設計)人: | 賴建勛;唐乃元;張永明 | 申請(專利權)人: | 先進光電科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B13/00 | 分類號: | G02B13/00;G02B13/18 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 智云 |
| 地址: | 中國臺灣中部科學工業*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 成像 系統 | ||
1.一種光學成像系統,其特征在于,由物側至像側依次包括:
一第一透鏡,具有屈折力;
一第二透鏡,具有屈折力;
一第三透鏡,具有屈折力;
一第四透鏡,具有正屈折力;
一第五透鏡,具有屈折力;
一第六透鏡,具有屈折力;以及
一成像面;
其中所述光學成像系統具有屈折力的透鏡為六枚,且所述第一透鏡至所述第六透鏡中至少一枚透鏡的至少一表面具有至少一反曲點,所述第一透鏡至所述第三透鏡、所述第五透鏡、所述第六透鏡中至少一枚透鏡具有正屈折力,所述第一透鏡至所述第六透鏡的焦距分別為f1、f2、f3、f4、f5、f6,所述光學成像系統的焦距為f,所述光學成像系統的入射光瞳直徑為HEP,所述第一透鏡物側面至所述成像面于光軸上具有一距離HOS,所述第一透鏡物側面至所述第六透鏡像側面于光軸上具有一距離InTL,所述光學成像系統的最大可視角度的一半為HAF,所述第一透鏡至所述第六透鏡于1/2HEP高度且平行于光軸的厚度分別為ETP1、ETP2、ETP3、ETP4、ETP5以及ETP6,前述ETP1至ETP6的總和為SETP,所述第一透鏡至所述第六透鏡于光軸的厚度分別為TP1、TP2、TP3、TP4、TP5以及TP6,前述TP1至TP6的總和為STP,其滿足下列條件:1.0≤f/HEP≤1.2;32.5deg≤HAF≤42.502deg以及0.995≤SETP/STP≤0.998。
2.如權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,所述第一透鏡物側面上于1/2HEP高度的坐標點至所述成像面間平行于光軸的水平距離為ETL,所述第一透鏡物側面上于1/2HEP高度的坐標點至所述第六透鏡像側面上于1/2HEP高度的坐標點間平行于光軸的水平距離為EIN,其滿足下列條件:0.732≤EIN/ETL≤0.975。
3.如權利要求2所述的光學成像系統,其特征在于,所述第一透鏡至所述第六透鏡于1/2HEP高度且平行于光軸的厚度分別為ETP1、ETP2、ETP3、ETP4、ETP5以及ETP6,前述ETP1至ETP6的總和為SETP,其滿足下列公式:0.756≤SETP/EIN≤0.855。
4.如權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,所述光學成像系統包括一濾光組件,所述濾光組件位于所述第六透鏡以及所述成像面之間,所述第六透鏡像側面上于1/2HEP高度的坐標點至所述濾光組件間平行于光軸的距離為EIR,所述第六透鏡像側面上與光軸的交點至所述濾光組件間平行于光軸的距離為PIR,其滿足下列公式:0.746≤EIR/PIR≤1.1。
5.如權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,所述第一透鏡具有負屈折力。
6.如權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,可見光在所述成像面上的光軸、0.3HOI以及0.7HOI三處于空間頻率55cycles/mm的調制轉換對比轉移率分別以MTFE0、MTFE3以及MTFE7表示,其滿足下列條件:MTFE0≥0.2;MTFE3≥0.01;以及MTFE7≥0.01。
7.如權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,所述成像面為一平面或一曲面。
8.如權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,所述第六透鏡像側面上于1/2HEP高度的坐標點至所述成像面間平行于光軸的水平距離為EBL,所述第六透鏡像側面上與光軸的交點至所述成像面平行于光軸的水平距離為BL,其滿足下列公式:0.9301≤EBL/BL≤1.2622。
9.如權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,還包括一光圈,并且所述光圈至所述成像面于光軸上具有一距離InS,其滿足下列公式:0.25944≤InS/HOS≤0.35699。
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