[發(fā)明專利]一種在鋯合金表面制備非晶納米晶涂層的方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201710404821.5
• 申請日: 2017-06-01
• 公開（公告）號: CN107299316A
• 公開（公告）日: 2017-10-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 楊亮;蔡保賢
• 申請（專利權(quán)）人: 南京航空航天大學
• 主分類號: C23C14/16
• 分類號: C23C14/16;C23C14/35;C23C14/54
• 代理公司: 南京鐘山專利代理有限公司32252
• 代理人: 戴朝榮

1.一種在鋯合金表面制備非晶納米晶涂層的方法，其特征在于：包括以下步驟：

1)靶材選取

選取鋯-銅合金靶，或者高純銅靶、高純鋯靶作為濺射靶，Zr:Cu的原子比為75:25，將靶材放置于磁控濺射室；

2)襯底處理

將表面拋光的純鋯基體依次用丙酮、酒精和去離子水超聲處理20～30分鐘，自然晾干，將處理后的鋯片置于磁控濺射真空室內(nèi)的樣品臺上，準備鍍膜；

3)制備ZrCu非晶納米晶復合涂層

首先將真空室的氣壓抽至5×10-4Pa，然后通入80sccm的高純氬氣至真空室內(nèi)，調(diào)節(jié)真空度至0.35Pa；開啟偏壓電源，對步驟2)處理過的鋯基體表面進行偏壓清洗10～20分鐘；隨后關(guān)閉偏壓電源，開啟裝有合金靶的濺射源，并通過調(diào)節(jié)電流來改變?yōu)R射功率控制濺射速率，通過改變?yōu)R射時間控制沉積涂層的厚度，最后制備出一定厚度的非晶納米晶涂層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的在鋯合金表面制備非晶納米晶涂層的方法，其特征在于：步驟3)中，負偏壓為300V；合金靶的濺射功率為80W，選用直流脈沖電源，電壓為340V；基體與靶材的距離為90mm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的在鋯合金表面制備非晶納米晶涂層的方法，其特征在于：步驟3)中，濺射時間為20-60min。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的在鋯合金表面制備非晶納米晶涂層的方法，其特征在于：步驟3)中，濺射時間為40min。

5.權(quán)利要求1所述方法制備的ZrCu非晶納米晶復合涂層，其特征在于：非晶相為ZrCu二元合金，納米晶為Zr相。