[發明專利]光學成像系統有效
| 申請號: | 201710404658.2 | 申請日: | 2017-06-01 |
| 公開(公告)號: | CN107589519B | 公開(公告)日: | 2020-05-19 |
| 發明(設計)人: | 賴建勛;唐乃元;張永明 | 申請(專利權)人: | 先進光電科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B13/00 | 分類號: | G02B13/00;G02B13/18 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 智云 |
| 地址: | 中國臺灣中部科學工業*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 成像 系統 | ||
1.一種光學成像系統,其特征在于,由物側至像側依次包括:
一第一透鏡,具有屈折力;
一第二透鏡,具有屈折力;
一第三透鏡,具有屈折力;
一第四透鏡,具有正屈折力;
一第五透鏡,具有屈折力;
一第六透鏡,具有屈折力;以及
一成像面;
其中所述光學成像系統具有屈折力的透鏡為六枚,且所述第一透鏡至所述第六透鏡中至少一枚透鏡的至少一表面具有至少一反曲點,所述第一透鏡至所述第三透鏡、所述第五透鏡、所述第六透鏡中至少一枚透鏡具有正屈折力,所述第一透鏡至所述第六透鏡的焦距分別為f1、f2、f3、f4、f5、f6,所述光學成像系統的焦距為f,所述光學成像系統的入射光瞳直徑為HEP,所述第一透鏡物側面至所述成像面于光軸上具有一距離HOS,所述第一透鏡物側面至所述第六透鏡像側面于光軸上具有一距離InTL,所述光學成像系統的最大可視角度的一半為HAF,以所述第一透鏡至所述第六透鏡中任一透鏡的任一表面與光軸的交點為起點,沿著所述表面的輪廓直到所述表面上距離光軸1/2入射光瞳直徑的垂直高度處的坐標點為止,前述兩點間的輪廓曲線長度為ARE,其滿足下列條件:1≤f/HEP≤1.2;32.5deg≤HAF≤42.502deg以及1≤2(ARE/HEP)≤1.0509。
2.如權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,所述光學成像系統于成像時的TV畸變為TDT,其中,所述光學成像系統于所述成像面上垂直于光軸具有一最大成像高度HOI,所述光學成像系統的正向子午面光扇的最長工作波長通過入射光瞳邊緣并入射在所述成像面上0.7HOI處的橫向像差以PLTA表示,其正向子午面光扇的最短工作波長通過所述入射光瞳邊緣并入射在所述成像面上0.7HOI處的橫向像差以PSTA表示,負向子午面光扇的最長工作波長通過所述入射光瞳邊緣并入射在所述成像面上0.7HOI處的橫向像差以NLTA表示,負向子午面光扇的最短工作波長通過所述入射光瞳邊緣并入射在所述成像面上0.7HOI處的橫向像差以NSTA表示,弧矢面光扇的最長工作波長通過所述入射光瞳邊緣并入射在所述成像面上0.7HOI處的橫向像差以SLTA表示,弧矢面光扇的最短工作波長通過所述入射光瞳邊緣并入射在所述成像面上0.7HOI處的橫向像差以SSTA表示,其滿足下列條件:PLTA≤100微米;PSTA≤100微米;NLTA≤100微米;NSTA≤100微米;SLTA≤100微米;SSTA≤100微米;以及│TDT│100%。
3.如權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,所述第一透鏡至所述第六透鏡中任一透鏡的任一表面的最大有效半徑以EHD表示,以所述第一透鏡至所述第六透鏡中任一透鏡的任一表面與光軸的交點為起點,沿著所述表面的輪廓直到所述表面的最大有效半徑處為終點,前述兩點間的輪廓曲線長度為ARS,其滿足下列公式:1.0001≤ARS/EHD≤1.4243。
4.如權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,所述光學成像系統滿足下列公式:34.86630mm≤HOS≤50mm。
5.如權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,所述成像面為一平面或一曲面。
6.如權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,以所述第六透鏡的物側面于光軸上的交點為起點,沿著所述表面的輪廓直到所述表面上距離光軸1/2入射光瞳直徑的垂直高度處的坐標點為止,前述兩點間的輪廓曲線長度為ARE61,以所述第六透鏡的像側面于光軸上的交點為起點,沿著所述表面的輪廓直到所述表面上距離光軸1/2入射光瞳直徑的垂直高度處的坐標點為止,前述兩點間的輪廓曲線長度為ARE62,第六透鏡于光軸上的厚度為TP6,其滿足下列條件:0.2731≤ARE61/TP6≤1.2356;以及0.2703≤ARE62/TP6≤1.2378。
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