[發明專利]一種超快氫離子復合電極材料及其制備方法

有效

• 申請號: 201710404235.0
• 申請日: 2017-06-02
• 公開（公告）號: CN107248452B
• 公開（公告）日: 2018-10-16
• 發明（設計）人: 趙英淵;郭靜;馬廷麗;江念;高立國;李艷強
• 申請（專利權）人: 大連理工大學
• 主分類號: H01G11/30
• 分類號: H01G11/30;H01G11/32;H01G11/86
• 代理公司: 大連理工大學專利中心 21200
• 代理人: 李曉亮;潘迅

1.一種超快氫離子復合電極材料，其特征在于，所述的超快氫離子復合電極材料包括苝四羧酸酐基氨基酸和還原氧化石墨，以還原氧化石墨作為基底，二者通過π-π相互作用聚集，苝四羧酸酐基氨基酸負載在還原氧化石墨上；所述苝四羧酸酐基氨基酸與氧化石墨的質量比為0.2～0.8：0.05～0.2。

2.上述權利要求1所述的超快氫離子復合電極材料的制備方法，其特征在于以下步驟：

第一步，將苝四羧酸酐基氨基酸與氧化石墨懸浮液放入容器中，在70～100℃、攪拌均勻條件下，反應3～7小時得到含有苝四羧酸酐基氨基酸/氧化石墨復合物的混合溶液；所述苝四羧酸酐基氨基酸與氧化石墨的質量比為0.2～0.8：0.05～0.2；

第二步，在第一步得到的混合溶液中加入用于還原氧化石墨的還原劑，在80～100℃條件下反應0.5～4小時后，離心、洗滌、干燥，得到苝四羧酸酐基氨基酸/還原氧化石墨的超快氫離子復合電極材料；所述還原劑與氧化石墨的質量比為0.1～0.4:0.05～0.2。

3.根據權利要求2所述的超快氫離子復合電極材料的制備方法，其特征在于，所述的苝四羧酸酐基氨基酸是苝四羧酸酐基谷氨酸、苝四羧酸酐基甘氨酸、苝四羧酸酐基天冬氨酸中的一種。

4.根據權利要求2或3所述的超快氫離子復合電極材料的制備方法，其特征在于，所述氧化石墨懸浮液質量濃度為1～4毫克/毫升。

5.根據權利要求2或3所述的超快氫離子復合電極材料的制備方法，其特征在于，所述的還原劑是氨水、水合肼、硼氫化鈉溶液中的一種或多種。

6.根據權利要求4所述的超快氫離子復合電極材料的制備方法，其特征在于，所述的還原劑是氨水、水合肼、硼氫化鈉溶液中的一種或多種。

7.根據權利要求2或3或6所述的超快氫離子復合電極材料的制備方法，其特征在于，所述還原劑的質量分數為5～25％。

8.根據權利要求4所述的超快氫離子復合電極材料的制備方法，其特征在于，所述還原劑的質量分數為5～25％。

9.根據權利要求5所述的超快氫離子復合電極材料的制備方法，其特征在于，所述還原劑的質量分數為5～25％。