[發(fā)明專利]一種柔順定位平臺位移的魯棒測量方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710402876.2 | 申請日: | 2017-06-01 |
| 公開(公告)號: | CN107328365B | 公開(公告)日: | 2019-05-14 |
| 發(fā)明(設計)人: | 張憲民;張翔 | 申請(專利權)人: | 華南理工大學 |
| 主分類號: | G01B11/02 | 分類號: | G01B11/02;G06T7/70 |
| 代理公司: | 廣州市華學知識產權代理有限公司 44245 | 代理人: | 馮炳輝 |
| 地址: | 510640 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 柔順 定位 平臺 位移 測量方法 | ||
本發(fā)明公開了一種柔順定位平臺位移的魯棒測量方法,包括步驟:1)采用RPT算法分別獲取模板圖像和待測圖像的圓投影向量;2)重建圓投影向量模型并對步驟1)中獲取的兩個圓投影向量分別校正噪聲干擾項和光照干擾項;3)利用歸一化相關函數(shù)和匹配位置驗證策略尋找步驟2)中相似性最大位置,即為整數(shù)級像素的位移值;4)利用步驟3)的結果,進一步采用基于圖像梯度函數(shù)的亞像素算法獲取亞像素級的位移;5)根據(jù)步驟3)與步驟4)的結果計算得到最終位移值。本發(fā)明采用校正后的RPT算法和基于圖像梯度函數(shù)的亞像素級位移測量方法,實現(xiàn)柔順微納定位系統(tǒng)位移的精確地測量。
技術領域
本發(fā)明涉及數(shù)字圖像處理和圖像精密測量的技術領域,尤其是指一種柔順定位平臺位移的魯棒測量方法。
背景技術
柔順定位平臺在微納操作領域中占據(jù)了重要的地位。由于柔順機構的存在,使得該定位平臺具有無需裝配,連接鉸鏈少,良好的潤滑,無摩擦等特點,目前已被廣泛應用在微外科手術,微裝配和微制造等領域中。國內外有很多學者對柔順定位平臺做了研究。一般地,我們評價柔順定位平臺的性能時,把位移作為一項非常重要的指標。然而由于柔順機構的特殊結構,使得測量微位移變得異常困難,傳統(tǒng)的測量方法將不再適用。
目前我們常采用的測量微位移的方法主要有:1)電容式位移傳感器:測量分辨率達納米級,使用時需要與一些輔助件如放大器或外接振蕩器等配合使用,輔助件的數(shù)目也隨測量自由度的增加而增加,從而造成測量不便。2)激光干涉儀:測量精度同樣可以達到納米級,但是該系統(tǒng)僅能在同一時刻測量一個自由度上的位移,如果有多個自由度上的待測目標時,每次測量結束后,需要重新調整該系統(tǒng)中激光源、干涉鏡和反射鏡的位置進行下一個自由度的測量,調整過程比較復雜。3)基于計算機視覺的方法:分辨率達微米級,可同時測量多個自由度的位移,但當待測目標發(fā)生旋轉時,或測量環(huán)境中存在光照和噪聲干擾時,多數(shù)算法將失效。因此,以上三類方法均無法應用在柔順定位平臺位移的測量中。
本發(fā)明提供一種柔順定位平臺位移的魯棒測量方法,該方法主要包括三個部分:1)整數(shù)級像素的位移獲取;2)亞像素級的位移獲取;3)算法的實現(xiàn)。采用校正后的RPT(Ringprojection transform)算法和基于圖像梯度函數(shù)的亞像素算法,從而精確地測量柔順定位平臺的位移。此外,該算法可以集成至一套光學測量系統(tǒng)中,便于實現(xiàn),能同時測量多個自由度方向上的位移,也能對測量結果進行驗證。
發(fā)明內容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術的不足,提供了一種柔順定位平臺位移的魯棒測量方法,該方法能有效解決傳統(tǒng)測量方法設備安裝復雜,無法進行多自由度同時測量,抗光照、噪聲變化能力差,精度低和無法測量旋轉目標的位移等問題。本發(fā)明在傳統(tǒng)的RPT算法基礎上,采用校正噪聲干擾項和光照干擾項的方法進行改進,結合一種匹配位置驗證策略,從而獲得整數(shù)級像素的位移,同時采用一種基于圖像梯度函數(shù)的算法獲取亞像素級的位移,最終實現(xiàn)柔順定位平臺位移的精確測量。該方法實現(xiàn)簡單,測量精度高,抗干擾能力強,具有旋轉不變性。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明所提供的技術方案為:一種柔順定位平臺位移的魯棒測量方法,包括以下步驟:
1)采用RPT算法分別獲取模板圖像和待測圖像的圓投影向量;
2)重建圓投影向量模型并對步驟1)中獲取的兩個圓投影向量分別校正噪聲干擾項和光照干擾項;
3)利用歸一化相關函數(shù)和匹配位置驗證策略尋找步驟2)中相似性最大位置,即為整數(shù)級像素的位移;
4)利用步驟3)的結果,進一步采用基于圖像梯度函數(shù)的亞像素算法獲取亞像素級的位移;
5)根據(jù)步驟3)與步驟4)的結果計算得到最終位移。
在步驟1)中,分別計算模板圖像和待測圖像的圓投影向量,包括以下步驟:
1.1)在極坐標系中表示
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于華南理工大學,未經華南理工大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710402876.2/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:鋁電解槽位姿的測量系統(tǒng)及測量方法
- 下一篇:一種建筑工程防水結構





