[發明專利]適用于負性顯影的用于形成有機抗反射涂層的組合物

有效

• 申請號: 201710402064.8
• 申請日: 2017-05-31
• 公開（公告）號: CN107446452B
• 公開（公告）日: 2021-06-01
• 發明（設計）人: 盧孝貞;金知賢;金升振;金炫辰
• 申請（專利權）人: 東進世美肯株式會社
• 主分類號: G03F7/09
• 分類號: G03F7/09;C09D133/12;C08J3/24;C08G18/32;C08G18/78;C08F220/14;C08F212/14;C08F220/28
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 顧晉偉;高世豪

1.一種用于形成有機抗反射涂層的組合物，包含：

含有至少一個由下式2表示的部分的異氰脲酸酯化合物；

由下式3表示的聚合物；以及

用于溶解上述組分的有機溶劑，

[式2]

[式3]

在式2中，R獨立地為氫原子或甲基，R’獨立地為含0至6個雜原子的具有1至15個碳原子的鏈狀或環狀飽和或不飽和烴基，R”獨立地為含0至8個雜原子的具有1至15個碳原子的鏈狀或環狀飽和或不飽和烴基，兩個或更多個由式2表示的部分通過R’連接，

在式3中，R₁獨立地為氫或甲基(-CH₃)，R₂為羥基(-OH)或含0至2個羥基的具有1至5個碳原子的烷氧基，R₃為含0至2個雜原子的具有3至15個碳原子的鏈狀或環狀飽和或不飽和烴基，R₄為含0至3個雜原子的具有5至15個碳原子的芳基，x、y和z各自為構成所述聚合物的各重復單元的摩爾％，x為40摩爾％至70摩爾％，y為5摩爾％至25摩爾％并且z為15摩爾％至45摩爾％。

2.根據權利要求1所述的用于形成有機抗反射涂層的組合物，其中所述異氰脲酸酯化合物的量為1重量％至10重量％，所述聚合物的量為0.1重量％至5重量％并且所述有機溶劑的量為85重量％至98.9重量％。

3.根據權利要求1所述的用于形成有機抗反射涂層的組合物，還包含：0.01重量％至0.4重量％的用于使所述異氰脲酸酯化合物交聯的交聯劑；以及0.02重量％至0.5重量％的用于促進所述異氰脲酸酯化合物的交聯反應并且用于向光刻膠的下面部分供應酸的酸發生劑。

4.根據權利要求1所述的用于形成有機抗反射涂層的組合物，其中R’獨立地為含0至2個雜原子的具有1至10個碳原子的烷基，R”獨立地為(i)含0至2個雜原子的具有1至10個碳原子的烷基，或者(ii)含0至2個雜原子的具有4至10個碳原子的環烷基、芳基或雜環基，

R₂為含0至2個羥基的具有1至3個碳原子的烷氧基，R₃為含0至2個羥基的具有3至12個碳原子的烷基或環烷基，或者含1至2個氧原子的具有3至12個碳原子的雜環基，R₄為含0至2個氧原子的具有6至12個碳原子的芳基。

5.根據權利要求1所述的用于形成有機抗反射涂層的組合物，其中所述聚合物的重均分子量為3,000至10,000。

6.根據權利要求1所述的用于形成有機抗反射涂層的組合物，其中由式2表示的所述異氰脲酸酯化合物是包含由以下式2a至2h表示的重復單元的化合物，并且選自

及其混合物，

由式3表示的所述聚合物選自及其混合物，其中在式3a至3g中，x、y和z與式3中限定的相同。

7.根據權利要求1所述的用于形成有機抗反射涂層的組合物，其中所述有機溶劑選自環己酮、環戊酮、丁內酯、二甲基乙酰胺、二甲基甲酰胺、二甲基亞砜、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、四氫糠醇、丙二醇單甲醚(PGME)、丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)、乳酸乙酯、其混合物。