[發明專利]一種激光光束的波前凈化方法有效
| 申請號: | 201710400450.3 | 申請日: | 2017-05-31 |
| 公開(公告)號: | CN107302171B | 公開(公告)日: | 2020-04-24 |
| 發明(設計)人: | 周壽桓;劉磊;王鋼;趙鴻 | 申請(專利權)人: | 中國電子科技集團公司第十一研究所 |
| 主分類號: | H01S3/042 | 分類號: | H01S3/042;H01S3/04 |
| 代理公司: | 工業和信息化部電子專利中心 11010 | 代理人: | 于金平 |
| 地址: | 100015*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 激光 光束 凈化 方法 | ||
1.一種激光光束的波前凈化方法,其特征在于,包括以下步驟:
將半導體制冷器貼合在光學材料上;
通過調整所述半導體制冷器的溫度和所述半導體制冷器在所述光學材料上的排布方式,改變所述光學材料中的折射率場分布,以使當帶有波前畸變的激光光束通過所述光學材料時,得到凈化的激光光束;
所述調整所述半導體制冷器的溫度包括以下步驟:
通過溫度控制單元控制所述半導體制冷器的溫度,當帶有波前畸變的激光光束通過所述光學材料時得到補償后的波前畸變;
采集所述補償后的波前畸變,當所述補償后的波前畸變達不到凈化的激光光束的要求時,根據所述補償后的波前畸變的特點得到所述半導體制冷器下一次需要達到的溫度;
繼續通過溫度控制單元控制所述半導體制冷器的溫度為下一次需要達到的溫度并采集補償后的波前畸變,直到當補償后的波前畸變達到凈化的激光光束的要求;
其中,所述補償后的波前畸變的特點包括波前畸變的幅值和變化頻率。
2.如權利要求1所述的激光光束的波前凈化方法,其特征在于,在所述采集補償后的波前畸變之前還包括:
對所述補償后的波前畸變進行分光。
3.如權利要求1所述的激光光束的波前凈化方法,其特征在于,還包括以下步驟:
當所述補償后的波前畸變為凈化的激光光束時,通過溫度傳感器探測并顯示所述半導體制冷器的溫度。
4.如權利要求3所述的激光光束的波前凈化方法,其特征在于,所述通過調整所述半導體制冷器的溫度改變所述光學材料中的折射率場分布,包括:
通過溫度控制單元控制所述半導體制冷器的溫度為所述溫度傳感器探測并顯示的溫度。
5.如權利要求3所述的激光光束的波前凈化方法,其特征在于,所述半導體制冷器貼合在導熱銅塊上,所述導熱銅塊通過導熱脂貼合在所述光學材料上,所述溫度傳感器放置在所述導熱銅塊內。
6.如權利要求1或4所述的激光光束的波前凈化方法,其特征在于,所述溫度控制單元用于控制一個半導體制冷器的溫度,或用于控制由幾個半導體制冷器構成的半導體制冷器組的溫度。
7.如權利要求1所述的激光光束的波前凈化方法,其特征在于,所述光學材料的出射面和入射面上均設有光學膜。
8.如權利要求7所述的激光光束的波前凈化方法,其特征在于,將半導體制冷器貼合在除所述出射面和所述入射面的光學材料的表面。
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