[發(fā)明專利]圖像處理方法及裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710399476.0
• 申請(qǐng)日: 2017-05-31
• 公開（公告）號(hào): CN107240076A
• 公開（公告）日: 2017-10-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊松
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京小米移動(dòng)軟件有限公司
• 主分類號(hào): G06T5/00
• 分類號(hào): G06T5/00;G06N3/08
• 代理公司: 北京尚倫律師事務(wù)所11477
• 代理人: 代治國(guó)

1.一種圖像處理方法，其特征在于，包括：

獲取待顯示圖像的灰度圖和色度圖；

獲取所述灰度圖的骨架圖和紋理圖；

分別對(duì)所述骨架圖和紋理圖進(jìn)行修復(fù)，獲取修復(fù)骨架圖和修復(fù)紋理圖；

根據(jù)所述修復(fù)骨架圖和修復(fù)紋理圖，獲取修復(fù)灰度圖；

根據(jù)所述修復(fù)灰度圖和所述色度圖顯示所述待顯示圖像的復(fù)原圖像。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述獲取所述灰度圖的骨架圖和紋理圖包括：

通過全變分算法將所述灰度圖分解為所述骨架圖和所述紋理圖。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述分別對(duì)所述骨架圖和紋理圖進(jìn)行修復(fù)，獲取修復(fù)骨架圖和修復(fù)紋理圖包括：

通過第一全卷積網(wǎng)絡(luò)對(duì)所述骨架圖進(jìn)行修復(fù)，獲取所述修復(fù)骨架圖；

通過第二全卷積網(wǎng)絡(luò)對(duì)所述紋理圖進(jìn)行修復(fù)，獲取所述修復(fù)紋理圖。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述通過第一全卷積網(wǎng)絡(luò)對(duì)所述骨架圖進(jìn)行修復(fù)，獲取所述修復(fù)骨架圖包括：

通過所述第一全卷積網(wǎng)絡(luò)的第一卷積層對(duì)所述骨架圖進(jìn)行特征提取，獲取特征骨架圖，所述第一卷積層的卷積核為3*3，步長(zhǎng)為1；

通過所述第一全卷積網(wǎng)絡(luò)的第二卷積層對(duì)所述特征骨架圖進(jìn)行降維，獲取降維骨架圖，所述第二卷積層的卷積核為3*3，步長(zhǎng)為2；

通過所述第一全卷積網(wǎng)絡(luò)的第三卷積層對(duì)所述降維骨架圖進(jìn)行特征映射，獲取映射骨架圖，所述第三卷積層的卷積核為1*1，步長(zhǎng)為2；

通過所述第一全卷積網(wǎng)絡(luò)的第四卷積層對(duì)所述映射骨架圖進(jìn)行升維采樣，獲取所述修復(fù)骨架圖，所述第四卷積層為反卷積層，卷積核為3*3，步長(zhǎng)為2。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述通過第二全卷積網(wǎng)絡(luò)對(duì)所述紋理圖進(jìn)行修復(fù)，獲取所述修復(fù)紋理圖包括：

通過所述第二全卷積網(wǎng)絡(luò)的第五卷積層對(duì)所述紋理圖進(jìn)行特征提取，獲取特征紋理圖，所述第五卷積層的卷積核為3*3，步長(zhǎng)為1；

通過所述第二全卷積網(wǎng)絡(luò)的第六卷積層對(duì)所述特征紋理圖進(jìn)行降維，獲取降維紋理圖，所述第六卷積層的卷積核為3*3，步長(zhǎng)為2；

通過所述第二全卷積網(wǎng)絡(luò)的第七卷積層對(duì)所述降維紋理圖進(jìn)行特征映射，獲取映射紋理圖，所述第七卷積層的卷積核為1*1，步長(zhǎng)為2；

通過所述第二全卷積網(wǎng)絡(luò)的第八卷積層對(duì)所述映射紋理圖進(jìn)行升維采樣，獲取所述修復(fù)紋理圖，所述第八卷積層為反卷積層，卷積核為3*3，步長(zhǎng)為2。

6.一種圖像處理裝置，其特征在于，包括：

第一獲取模塊，用于獲取待顯示圖像的灰度圖和色度圖；

第二獲取模塊，用于獲取所述灰度圖的骨架圖和紋理圖；

修復(fù)模塊，用于分別對(duì)所述骨架圖和紋理圖進(jìn)行修復(fù)，獲取修復(fù)骨架圖和修復(fù)紋理圖；

第三獲取模塊，用于根據(jù)所述修復(fù)骨架圖和修復(fù)紋理圖，獲取修復(fù)灰度圖；

顯示模塊，用于根據(jù)所述修復(fù)灰度圖和所述色度圖顯示所述待顯示圖像的復(fù)原圖像。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，所述第二獲取模塊包括：

第一獲取子模塊，用于通過全變分算法將所述灰度圖分解為所述骨架圖和所述紋理圖。

8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的裝置，其特征在于，所述修復(fù)模塊包括：

第一修復(fù)子模塊，用于通過第一全卷積網(wǎng)絡(luò)對(duì)所述骨架圖進(jìn)行修復(fù)，獲取所述修復(fù)骨架圖；

第二修復(fù)子模塊，用于通過第二全卷積網(wǎng)絡(luò)對(duì)所述紋理圖進(jìn)行修復(fù)，獲取所述修復(fù)紋理圖。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于，所述第一修復(fù)子模塊包括：

第一修復(fù)單元，用于通過所述第一全卷積網(wǎng)絡(luò)的第一卷積層對(duì)所述骨架圖進(jìn)行特征提取，獲取特征骨架圖，所述第一卷積層的卷積核為3*3，步長(zhǎng)為1；

第二修復(fù)單元，用于通過所述第一全卷積網(wǎng)絡(luò)的第二卷積層對(duì)所述特征骨架圖進(jìn)行降維，獲取降維骨架圖，所述第二卷積層的卷積核為3*3，步長(zhǎng)為2；

第三修復(fù)單元，用于通過所述第一全卷積網(wǎng)絡(luò)的第三卷積層對(duì)所述降維骨架圖進(jìn)行特征映射，獲取映射骨架圖，所述第三卷積層的卷積核為1*1，步長(zhǎng)為2；

第四修復(fù)單元，用于通過所述第一全卷積網(wǎng)絡(luò)的第四卷積層對(duì)所述映射骨架圖進(jìn)行升維采樣，獲取所述修復(fù)骨架圖，所述第四卷積層為反卷積層，卷積核為3*3，步長(zhǎng)為2。