[發(fā)明專利]一種抑制熔融硅液面振動的石英坩堝及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710394434.8 | 申請日： | 2017-05-29 |
| 公開（公告）號： | CN107287652A | 公開（公告）日： | 2017-10-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 向真雄;吳文垚;司繼成 | 申請（專利權(quán)）人： | 德令哈晶輝石英材料有限公司 |
| 主分類號： | C30B15/10 | 分類號： | C30B15/10;C30B29/06 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 817000 青海省海西蒙古族藏族*** | 國省代碼： | 青海;63 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 抑制 熔融 液面 振動 石英 坩堝 及其 制備 方法 | ||
1.一種抑制熔融硅液面振動的石英坩堝，是以純度為99.999%及以上的天然石英砂或合成石英砂經(jīng)高溫熔制工藝而成，包含壁部，彎曲部和底部，其特征在于：壁部和彎曲部的內(nèi)表面在垂直方向和水平方向分布有微凹槽，微凹槽的寬度為0～500μm，微凹槽的深度為0～500μm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種抑制熔融硅液面振動的石英坩堝，其特征在于：垂直方向微凹槽之間的間隔為5～20mm，水平方向微凹槽之間的間隔為0.1～5mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種抑制熔融硅液面振動的石英坩堝，其特征在于：微凹槽的橫截面為半圓形、矩形或半橢圓形中的任意一種。
4.一種抑制熔融硅液面振動石英坩堝的制備方法，其特征在于：在坩堝高溫熔制工藝結(jié)束后，用二氧化碳氣體激光器發(fā)射激光束對坩堝內(nèi)表面特定區(qū)域加熱使部分區(qū)域二氧化硅升華來形成凹槽；或者用鉆石鉆頭在水冷的條件下對表面的特定區(qū)域加工形成凹槽；或者用氫氧焰對表面的特定區(qū)域局部加熱使部分區(qū)域二氧化硅升華來形成凹槽；或者用加熱到高溫的等離子氣體對表面的特定區(qū)域加熱形成凹槽。
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