[發(fā)明專利]雙軸傾斜活動(dòng)裝置、照相裝置、光學(xué)裝置以及電子設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710391798.0
• 申請(qǐng)日: 2017-05-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108931875B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-09-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 寺嶋厚吉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 新思考電機(jī)有限公司
• 主分類號(hào): G03B5/00
• 分類號(hào): G03B5/00;H02K41/035
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 喻學(xué)兵

1.一種雙軸傾斜活動(dòng)裝置，其特征在于，具有：

內(nèi)部保持部，

位于所述內(nèi)部保持部周邊的外部保持部，

被所述內(nèi)部保持部以及所述外部保持部聯(lián)結(jié)、使所述內(nèi)部保持部對(duì)于所述外部保持部被保持為繞X軸以及繞與所述X軸垂直相交的Y軸自由傾斜活動(dòng)的中間部，

固定于所述內(nèi)部保持部上的磁鐵，

固定于外部保持部上、配置于面對(duì)所述磁鐵的位置的多個(gè)線圈；

其中，

所述磁鐵沿所述X軸與所述Y軸之間的方向磁化，所述線圈配置為流向面對(duì)所述磁鐵的部分的電流為所述X軸方向或所述Y軸方向。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙軸傾斜活動(dòng)裝置，其特征在于：所述磁鐵形成為四條邊向所述X軸方向或者所述Y軸方向延長(zhǎng)的四邊形，所述線圈沿所述磁鐵的各條邊配置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙軸傾斜活動(dòng)裝置，其特征在于：所述線圈的面對(duì)所述磁鐵的對(duì)面?zhèn)扰渲糜写判泽w。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙軸傾斜活動(dòng)裝置，其特征在于：所述磁鐵具有沿與所述X軸以及所述Y軸垂直相交的Z軸方向重疊的兩個(gè)磁鐵片，兩個(gè)所述磁鐵片的磁化方向相反。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的雙軸傾斜活動(dòng)裝置，其特征在于：所述線圈的整個(gè)面與所述磁鐵片相對(duì)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙軸傾斜活動(dòng)裝置，其特征在于：所述磁鐵為圓形狀。

7.一種照相裝置，其特征在于，具備：

將通過(guò)透鏡的來(lái)自被攝體的光線接受到攝像元件的透鏡模塊，以及

如權(quán)利要求1所述的雙軸傾斜活動(dòng)裝置，所述透鏡模塊固定于所述內(nèi)部保持部或者外部保持部上。

8.一種照相裝置，其特征在于，具備：

使來(lái)自被攝體的光線的光路發(fā)生折射的折射元件，

接收來(lái)自所述折射元件的光線的攝像元件，以及

如權(quán)利要求1所述的雙軸傾斜活動(dòng)裝置，所述折射元件固定于所述內(nèi)部保持部或者外部保持部上。

9.一種照相裝置，其特征在于，具備：

使來(lái)自被攝體的光線聚集的透鏡，

接收來(lái)自所述透鏡的光線的攝像元件，以及

如權(quán)利要求1所述的雙軸傾斜活動(dòng)裝置，所述攝像元件固定于所述內(nèi)部保持部或者外部保持部上。

10.一種光學(xué)裝置，其特征在于，具備：

通過(guò)光線的光學(xué)元件，以及

如權(quán)利要求1所述的雙軸傾斜活動(dòng)裝置，該光學(xué)元件固定于所述內(nèi)部保持部或者外部保持部上。

11.一種電子裝置，其特征在于，具備：

如權(quán)利要求7至9中任意一項(xiàng)所述的照相裝置或者如權(quán)利要求10所述的光學(xué)裝置。