[發明專利]一種用于傳質塔的自分布規整填料及加工使用方法

在審

• 申請號: 201710391540.0
• 申請日: 2017-05-27
• 公開（公告）號: CN107159085A
• 公開（公告）日: 2017-09-15
• 發明（設計）人: 時鋒;李永輝;耿中峰;呂惠生
• 申請（專利權）人: 天津九源化工工程有限公司
• 主分類號: B01J19/30
• 分類號: B01J19/30
• 代理公司: 天津市北洋有限責任專利代理事務所12201
• 代理人: 王麗

1.一種用于傳質塔的自分布規整填料，其特征是：自分布規整波紋填料單片(15)自上而下依次軋制或沖制出上過渡帶(13)、自分布填料主傳質區(12)和下過渡帶(14)；自分布填料的過渡帶(13)和下過渡帶(14)表面軋制出井字形的凹凸的過渡帶水平線槽(17)和過渡帶垂直線槽(18)，過渡帶水平線槽(17)與填料盤高度方向成90°，過渡帶垂直線槽(18)與填料盤高度方向成0°；主傳質區填料波紋角度(β)為30°～60°，上過渡帶(13)和下過渡帶(14)區域內的過渡帶填料波紋角度(γ)由主傳質區填料波紋角度(β)的30°～60°平滑旋轉過渡至90°。

2.如權利要求1所述的一種用于傳質塔的自分布規整填料，其特征是填料過渡帶寬度(h)為5～45mm，填料過渡帶區域的填料波紋(11)的形狀為圓形的一部分，填料過渡帶寬度(h)決定過渡帶填料波紋角度旋轉半徑(R)。

3.如權利要求1所述的一種用于傳質塔的自分布規整填料，其特征是上下兩盤自分布規整填料盤間汽液流道(16)平滑連接，填料盤間填料波紋銜接的角度為180°。

4.如權利要求1所述的一種用于傳質塔的自分布規整填料，其特征是自分布填料上過渡帶(13)和下過渡帶(14)的表面凹凸的過渡帶水平線槽(17)深度為0.4～1.0mm，過渡帶水平線槽(17)深度比過渡帶垂直線槽(18)深度深0.2～0.5mm，過渡帶水平線槽(17)和過渡帶垂直線槽(18)的寬度均為0.5～3mm。

5.如權利要求1所述的一種用于傳質塔的自分布規整填料，其特征是自分布填料的上過渡帶(13)和下過渡帶(14)表面軋制出的凸起部位中心的過渡帶刺孔(19)，過渡帶刺孔(19)的平均直徑為0.3～1.5mm。

6.如權利要求1所述的一種用于傳質塔的自分布規整填料，其特征是自分布填料主傳質區(12)表面軋制形成兩條相交的凹凸的主傳質區線槽(20)，并設置主傳質區分布孔(21)，主傳質區分布孔的孔徑為3～6mm，開孔率為主傳質區(12)面積的5～10％。

7.如權利要求1所述的一種用于傳質塔的自分布規整填料，其特征是自分布填料的主傳質區(12)表面兩條相交的凹凸的主傳質區線槽(20)，一條線槽的角度與位于主傳質區的自分布填料波紋(11)的角度一致，另一條線槽的角度與前一條線槽成鏡像對稱，對稱軸為填料盤高度方向，主傳質區線槽(20)深度為0.5～1.5mm，主傳質區線槽(20)寬度為1.5～4mm。

8.如權利要求1所述的一種用于傳質塔的自分布規整填料，其特征是自分布規整填料的加工材料為金屬，或非金屬，優選金屬材料，加工自分布規整波紋填料單片(15)的材料厚度為0.05～0.3mm。

9.如權利要求1所述的一種用于傳質塔的自分布規整填料的加工方法，其特征是自分布規整波紋填料單片(15)切割加工，采用以填料單片過渡帶的自分布填料波紋(11)的峰頂或谷底作為自分布規整波紋填料單片(15)中部的定尺切割基準點，自分布規整波紋填料單片采取雙邊切割加工方法，切割基準點到波紋填料單片兩邊的切割尺寸均為對應的自分布規整波紋填料單片(15)加工長度的一半，調控自分布規整填料盤主傳質區的高度，確保組裝成盤后的自分布規整填料盤面汽液流道(23)形成規則、封閉的橢圓氣液通道。

10.如權利要求1所述的一種用于傳質塔的自分布規整填料的使用方法，其特征是在傳質塔進料口下方或自分布規整填料段上方，配備液體分布器，液體分布器要求噴淋點數密度≥150點/m2，填料表面單位面積內液體分布液量差≤5％；對于塔徑≥700mm的傳質塔，塔釜自分布規整填料底部與塔釜氣相進口之間設置氣體分布裝置。