[發明專利]一種光學膜片靜電除塵機構

在審

• 申請號: 201710387839.9
• 申請日: 2017-05-27
• 公開（公告）號: CN107008700A
• 公開（公告）日: 2017-08-04
• 發明（設計）人: 郭少明
• 申請（專利權）人: 肇慶市端州區圖恩斯科技有限公司
• 主分類號: B08B6/00
• 分類號: B08B6/00;B08B7/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及光學膜片技術領域，具體涉及一種光學膜片靜電除塵機構。

背景技術

光學膜片，在生產過程中，為了提高其的質量，在包裝入庫前，需要對其進行清潔處理。傳統的人工通過手持吸塵輪對光學膜片進行除塵清潔，費時費力，且效率低下，而且，單獨采用粘塵輪進行除塵，除塵效果有限。

發明內容

本發明的目的是克服現有的采用人工通過手持吸塵輪對光學膜片進行除塵清潔，費時費力，除塵效果有限的問題。本發明的光學膜片靜電除塵機構，能夠靜電除塵清潔兩路光學膜片，增加了吸塵輥輪，提高除塵效果，結構簡單，容易實現，具有良好的應用前景。

為了達到上述目的，本發明所采用的技術方案是：一種光學膜片靜電除塵機構，其特征在于：包括左、右對稱設置的支撐板，兩片支撐板之間設置有從上到下依次分布的第一粘塵輥輪、靜電吸塵輥輪和第二粘塵輥輪，所述第一粘塵輥輪、第二粘塵輥輪的一端部均設置有電磁制動盤，所述第一粘塵輥輪、靜電吸塵輥輪之間的間距與靜電吸塵輥輪、第二粘塵輥輪之間的間距相同，所述兩片支撐板的四個邊角之間還設置有連接固定桿。

前述的一種光學膜片靜電除塵機構，其特征在于：所述第一粘塵輥輪、靜電吸塵輥輪之間的間距為1-2mm。

前述的一種光學膜片靜電除塵機構，其特征在于：所述第一粘塵輥輪、第二粘塵輥輪的直徑相同，且為靜電吸塵輥輪直徑的兩倍。

前述的一種光學膜片靜電除塵機構，其特征在于：所述兩片支撐板位于上方的連接固定桿之間設置有加固桿，所述加固桿設置在連接固定桿的中部。

前述的一種光學膜片靜電除塵機構，其特征在于：所述支撐板外側的底部設置有直角三角形狀的加強固定塊，所述加強固定塊的直角邊緊貼支撐板外側。

前述的一種光學膜片靜電除塵機構，其特征在于：所述第一粘塵輥輪、第二粘塵輥輪的另一端部分別安裝有伺服驅動電機。

前述的一種光學膜片靜電除塵機構，其特征在于：所述靜電吸塵輥輪采用自滾動方式安裝在兩片支撐板之間。

本發明的有益效果是：本發明的光學膜片靜電除塵機構，能夠靜電除塵清潔兩路光學膜片，增加了吸塵輥輪，提高除塵效果，結構簡單，容易實現，具有良好的應用前景。

附圖說明

圖1是本發明的光學膜片靜電除塵機構的結構示意圖。

具體實施方式

下面將結合說明書附圖，對本發明作進一步的說明。

如圖1所示，本發明的光學膜片靜電除塵機構，包括左、右對稱設置的支撐板1，兩片支撐板1之間設置有從上到下依次分布的第一粘塵輥輪2、靜電吸塵輥輪3和第二粘塵輥輪4，所述第一粘塵輥輪2、第二粘塵輥輪4的一端部均設置有電磁制動盤5，電磁制動盤5能在第一粘塵輥輪2、第二粘塵輥輪4在被伺服驅動電機帶動轉動下，限制第一粘塵輥輪2、第二粘塵輥輪4的轉動速度，便于調節其的轉速，使其減緩速度，提高粘塵效果。

所述第一粘塵輥輪2、靜電吸塵輥輪3之間的間距與靜電吸塵輥輪3、第二粘塵輥輪4之間的間距相同，所述兩片支撐板1的四個邊角之間還設置有連接固定桿6，提高兩片支撐板1連接的牢固性。

所述第一粘塵輥輪2、靜電吸塵輥輪3之間的間距為1-2mm，這樣就能夠同時對兩路光學膜片進行除塵處理。

所述第一粘塵輥輪2、第二粘塵輥輪4的直徑相同，且為靜電吸塵輥輪3直徑的兩倍，所述第一粘塵輥輪2、第二粘塵輥輪4的另一端部分別安裝有伺服驅動電機9，所述靜電吸塵輥輪3采用自滾動方式安裝在兩片支撐板1之間，第一粘塵輥輪2、第二粘塵輥輪4是主動滾動，靜電吸塵輥輪3是被動滾動，增加了靜電吸塵，提高吸附效果，而且，能夠有效的防止光學膜片的表面刮傷。

所述兩片支撐板1位于上方的連接固定桿6之間設置有加固桿7，所述加固桿7設置在連接固定桿6的中部，進一步提高兩片支撐板1連接的牢固性。

所述支撐板1外側的底部設置有直角三角形狀的加強固定塊8，所述加強固定塊8的直角邊緊貼支撐板1外側，能夠保證支撐板1放置的穩定性，防止晃動。

綜上所述，本發明的光學膜片靜電除塵機構，在兩側爐壁上均安裝有噴油嘴，能夠保證坯料加熱均勻，并增加了排渣通道與渣料收容箱，便于排渣的排除，只需清理渣料收容箱即可，無需停爐清理爐膛，提高加熱效率，結構簡單，容易實現，具有良好的應用前景。

以上顯示和描述了本發明的基本原理、主要特征及優點。本行業的技術人員應該了解，本發明不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本發明的原理，在不脫離本發明精神和范圍的前提下，本發明還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本發明范圍內。本發明要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效物界定。