[發明專利]缺陷檢查系統、膜制造裝置以及缺陷檢查方法

在審

• 申請號: 201710387479.2
• 申請日: 2017-05-26
• 公開（公告）號: CN107462580A
• 公開（公告）日: 2017-12-12
• 發明（設計）人: 廣瀨修;尾崎麻耶
• 申請（專利權）人: 住友化學株式會社
• 主分類號: G01N21/88
• 分類號: G01N21/88;G01N21/01;G06T7/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司11021
• 代理人: 劉文海

1.一種缺陷檢查系統，其特征在于，具備：

光源，其向膜照射光；

攝像部，其按離散時間拍攝二維圖像，其中，所述二維圖像基于從所述光源向所述膜照射并透過所述膜后或在所述膜上反射后的所述光而形成；

輸送部，其相對于所述光源以及所述攝像部沿著輸送方向相對地輸送所述膜；

圖像處理部，其對由所述攝像部拍攝到的所述二維圖像的圖像數據進行處理；以及

解析部，其對由所述圖像處理部處理后的所述圖像數據進行解析，

所述圖像處理部具有：

列分割處理部，其將所述二維圖像處理成列分割圖像的所述圖像數據，其中，所述列分割圖像通過將所述二維圖像分割為沿著所述輸送方向排列的多個列、并使由所述攝像部按所述離散時間拍攝到的所述二維圖像各自中的相同位置的所述列依照時間序列的順序排列而成；以及

增強處理部，其將由所述列分割處理部處理后的所述列分割圖像處理成增強了亮度變化的缺陷增強處理圖像的所述圖像數據，

所述解析部具有：

缺陷位置確定部，其根據由所述增強處理部處理后的所述缺陷增強處理圖像的所述圖像數據，來確定所述膜上的缺陷的位置；以及

缺陷種類識別部，其根據由所述列分割處理部處理后的所述列分割圖像的所述圖像數據，來識別由所述缺陷位置確定部確定所述位置后的所述缺陷的種類。

2.根據權利要求1所述的缺陷檢查系統，其中，

所述缺陷種類識別部通過在所述列分割圖像的所述缺陷的位置處以亮度合計值、亮度平均值、亮度中值、亮度方差、亮度梯度方向、亮度梯度的大小、所述缺陷的面積、所述缺陷的周長、所述缺陷的圓形度、所述缺陷的費雷特直徑以及所述缺陷的縱橫比中的任一方為特征量的機械學習，來識別所述缺陷的種類。

3.根據權利要求1或2所述的缺陷檢查系統，其中，

所述缺陷檢查系統還具備遮光體，該遮光體位于所述光源與所述膜之間，對從所述光源向所述膜照射的所述光的一部分進行遮擋，

所述輸送部相對于所述光源、所述遮光體以及所述攝像部沿著輸送方向相對地輸送所述膜。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的缺陷檢查系統，其中，

所述攝像部具有：

光電轉換元件；以及

光學構件，其使透過所述膜后或在所述膜上反射后的所述光在所述光電轉換元件的表面成像，

所述光電轉換元件以及所述圖像處理部一體地安裝于安裝基板。

5.一種膜制造裝置，其特征在于，

具備權利要求1至4中任一項所述的缺陷檢查系統。

6.一種缺陷檢查方法，其使用具備光源、攝像部、輸送部、圖像處理部以及解析部的缺陷檢查系統，

所述缺陷檢查方法包括：

從所述光源向膜照射光的工序；

由所述攝像部按離散時間拍攝二維圖像的工序，其中，所述二維圖像基于從所述光源向所述膜照射并透過所述膜后或在所述膜上反射后的所述光而形成；

由所述輸送部相對于所述光源以及所述攝像部沿著輸送方向相對地輸送所述膜的工序；

由所述圖像處理部對由所述攝像部拍攝到的所述二維圖像的圖像數據進行處理的工序；以及

由所述解析部對由所述圖像處理部處理后的所述圖像數據進行解析的工序，

所述缺陷檢查方法的特征在于，

對所述圖像數據進行處理的工序包括：

將所述二維圖像處理成列分割圖像的所述圖像數據的工序，其中，所述列分割圖像通過將所述二維圖像分割為沿著所述輸送方向排列的多個列、并使由所述攝像部按所述離散時間拍攝到的所述二維圖像各自中的相同位置的所述列依照時間序列的順序排列而成；以及

將所述列分割圖像處理成增強了亮度變化的缺陷增強處理圖像的所述圖像數據的工序，

對所述圖像數據進行解析的工序包括：

根據所述缺陷增強處理圖像的所述圖像數據來確定所述膜上的缺陷的位置的工序；以及

根據所述列分割圖像的所述圖像數據來識別根據所述缺陷增強處理圖像的所述圖像數據而確定所述位置后的所述缺陷的種類的工序。

7.根據權利要求6所述的缺陷檢查方法，其中，

使用還具備位于所述光源與所述膜之間的遮光體的缺陷檢查系統，

所述缺陷檢查方法還包括由所述遮光體對從所述光源向所述膜照射的所述光的一部分進行遮擋的工序，

在沿著輸送方向相對地輸送所述膜的工序中，由所述輸送部相對于所述光源、所述遮光體以及所述攝像部沿著輸送方向相對地輸送所述膜。