[發(fā)明專利]光學指紋傳感器模組

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710384764.9
• 申請日: 2017-05-26
• 公開（公告）號: CN107273821A
• 公開（公告）日: 2017-10-20
• 發(fā)明（設計）人: 凌嚴;朱虹
• 申請（專利權）人: 上?；j箕技術有限公司
• 主分類號: G06K9/00
• 分類號: G06K9/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司11227
• 代理人: 吳圳添,吳敏

技術領域

本發(fā)明涉及光學指紋識別領域，尤其涉及一種光學指紋傳感器模組。

背景技術

指紋成像識別技術，是通過光學指紋傳感器采集到人體的指紋圖像，然后與系統(tǒng)里的已有指紋成像信息進行比對，來判斷正確與否，進而實現(xiàn)身份識別的技術。由于其使用的方便性，以及人體指紋的唯一性，指紋成像識別技術已經大量應用于各個領域。比如公安局和海關等安檢領域、樓宇的門禁系統(tǒng)、以及個人電腦和手機等消費品領域等等。指紋成像識別技術的實現(xiàn)方式有光學成像、電容成像、超聲成像等多種技術。相對來說，光學指紋成像識別技術成像效果相對較好，設備成本相對較低。

公開號為CN104933421A的中國發(fā)明專利申請?zhí)峁┝艘环N光學式指紋成像系統(tǒng)，通過在系統(tǒng)的保護層外表面、保護層的內表面或光學指紋傳感器上表面增加濾光層，避免環(huán)境光對指紋圖像的干擾，減小環(huán)境光對指紋成像的影響。

然而，對于一個光學指紋傳感器模組而言，濾光作用還需要進一步考慮其它因素，現(xiàn)有光學指紋傳感器模組的結構有待改進，性能有待提高。

發(fā)明內容

本發(fā)明解決的問題是提供一種光學指紋傳感器模組，以優(yōu)化光學指紋傳感器模組的結構，提高光學指紋傳感器模組的性能。

為解決上述問題，本發(fā)明提供一種光學指紋傳感器模組，光學指紋傳感器模組包括：光學指紋傳感器；保護層，所述保護層位于所述光學指紋傳感器上方；背光源，所述背光源位于所述光學指紋傳感器下方或側邊；還包括：透光起伏結構，所述透光起伏結構位于所述保護層和所述指紋傳感器之間；所述透光起伏結構包括起伏單元和緩沖層；所述起伏單元緊密排布在所述緩沖層的第一表面，或者所述起伏單元分散排布在所述緩沖層的第一表面；干涉反射復合膜層；當所述起伏單元緊密排布在所述緩沖層的第一表面時，所述干涉反射復合膜層原貌覆蓋所述起伏單元；當所述起伏單元分散排布在所述緩沖層的第一表面時，所述干涉反射復合膜層原貌覆蓋所述起伏單元和空余的所述第一表面。

可選的，所述起伏單元的高度為1μm～100μm。

可選的，所述起伏單元的寬度為1μm～100μm。

可選的，當所述起伏單元分散排布在所述緩沖層表面時，相鄰所述起伏單元之間的距離在50μm以下。

可選的，所述起伏單元的外形為圓錐形、截頂圓錐形、棱錐形、截頂棱錐形、球缺形和橢球缺形的一種或多種。

可選的，所述干涉反射復合膜層對所述背光源光線具有高透過作用，所述高透過率作用為所述干涉反射復合膜層對所述背光源光線的透過率大于50％。

可選的，所述干涉反射復合膜層對所述環(huán)境光具有高濾除作用，所述高濾除作用為所述干涉反射復合膜層對所述環(huán)境光的透過率小于30％。

可選的，所述干涉反射復合膜層的厚度為50nm～5000nm。

可選的，所述干涉反射復合膜層的層數(shù)為2～200。

可選的，所述光學指紋傳感器模組還包括濾光層，所述濾光層位于所述透光起伏結構上方或下方，或者所述濾光層同時位于所述透光起伏結構的上方和下方。

與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明的技術方案具有以下優(yōu)點：

本發(fā)明的技術方案中，提供具有起伏單元的透光起伏結構，然后在透光起伏結構上制作相應的干涉反射復合膜層，此時，干涉反射復合膜層能夠獲得透光起伏結構的相應微觀起伏結構，進而使得干涉反射復合膜層能夠對不同角度的光線均起到相應的選擇通過作用，有效濾除角度較為分散的環(huán)境光，并保持對背光源光線的高透過作用，從而使得相應的光學指紋傳感器能夠接收到大量有效的背光源光線用于指紋圖像識別，使得光學指紋傳感器模組具有良好的指紋識別性能。

進一步，通過干涉反射復合膜層自身各尺寸大小的控制，可以使得干涉反射復合膜層的每個位置均是特別針對較小角度范圍光線的高透過(或高濾除)層結構，從而進一步提高干涉反射復合膜層的抗環(huán)境光的作用，以及對背光源光線的透過作用，并能夠進一步減少膜層的層數(shù)和總厚度，降低相應的工藝難度，降低工藝成本。

附圖說明

圖1光學指紋傳感器模組的疊層結構示意圖；

圖2是本發(fā)明實施例所提供的光學指紋傳感器模組剖面結構示意圖；

圖3是圖2所示光學指紋傳感器模組中光學指紋傳感器和背光源的俯視示意圖；

圖4是圖2所示光學指紋傳感器模組中部分起伏結構和干涉反射復合膜層的第一種放大結構示意圖；

圖5是圖2所示光學指紋傳感器模組中部分起伏結構和干涉反射復合膜層的第二種放大結構示意圖；