[發(fā)明專利]量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)、導(dǎo)光溶液及制備方法、導(dǎo)光結(jié)構(gòu)及背光模組

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710380428.7
• 申請(qǐng)日: 2017-05-25
• 公開（公告）號(hào): CN107219574A
• 公開（公告）日: 2017-09-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李冬澤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G02B5/00
• 分類號(hào): G02B5/00;G02F1/13357
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司44202
• 代理人: 郝傳鑫,熊永強(qiáng)

1.一種量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括量子點(diǎn)，所述量子點(diǎn)的外周面原位生長(zhǎng)有二氧化硅層，所述二氧化硅層包覆量子點(diǎn)的外周面。

2.如權(quán)利要求1所述的量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述量子點(diǎn)為紅色量子點(diǎn)或綠色量子點(diǎn)。

3.一種導(dǎo)光溶液，其特征在于，包括二氧化硅膠溶液及分布于二氧化硅溶液內(nèi)的數(shù)個(gè)量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)；所述量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)包括量子點(diǎn)，所述量子點(diǎn)的外周面原位生長(zhǎng)有二氧化硅層，所述二氧化硅層包覆量子點(diǎn)的外周面。

4.如權(quán)利要求3所述的導(dǎo)光溶液，其特征在于，所述數(shù)個(gè)量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)的中的量子點(diǎn)為綠色量子點(diǎn)和紅色量子點(diǎn)。

5.如權(quán)利要求3所述的導(dǎo)光溶液，其特征在于，在在常溫下靜止4-6小時(shí)后，或者對(duì)所述導(dǎo)光溶液加熱溫度為30-80度，加熱時(shí)間為30分鐘，所述導(dǎo)光溶液凝結(jié)。

6.一種導(dǎo)光溶液的制備方法，其特征在于，所述方法包括：

采用水溶性配體對(duì)量子點(diǎn)表面進(jìn)行修飾；

將一定比例的采用水溶性配體修飾后的量子點(diǎn)與硅酸四乙酯溶液混合，形成具有量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)的導(dǎo)光溶液；其中量子點(diǎn)包括紅色量子點(diǎn)和綠色量子點(diǎn)。

7.如權(quán)利要求5所述的導(dǎo)光溶液的制備方法，其特征在于，所述將一定比例的采用水溶性配體修飾后的量子點(diǎn)與硅酸四乙酯溶液混合，形成具有量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)的導(dǎo)光溶液的步驟中，水溶性配體修飾后的量子點(diǎn)表面的羥基誘導(dǎo)硅酸四乙酯醇解反應(yīng)，在量子點(diǎn)表面形成二氧化硅層，具體反應(yīng)式為

8.如權(quán)利要求6所述的導(dǎo)光溶液的制備方法，其特征在于，所述將一定比例的采用水溶性配體修飾后的量子點(diǎn)與硅酸四乙酯溶液混合，形成具有量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)的導(dǎo)光溶液的步驟中，在常溫下靜止4-6小時(shí)后，或者加熱狀態(tài)下，硅酸四乙酯繼續(xù)外延生長(zhǎng)，所述導(dǎo)光溶液可凝結(jié)。

9.一種導(dǎo)光結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括導(dǎo)光基板及由權(quán)利要求3-5任一項(xiàng)所述的導(dǎo)光溶液形成于所述導(dǎo)光基板表面的導(dǎo)光薄膜。

10.一種背光模組，其特征在于，包括藍(lán)色光源及權(quán)利要求9所述的導(dǎo)光結(jié)構(gòu)，所述藍(lán)色光源照射導(dǎo)光結(jié)構(gòu)的導(dǎo)光薄膜內(nèi)的量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)形成白光。