[發明專利]集成成像光場顯示系統透鏡陣列的校準方法

有效

• 申請號: 201710378464.X
• 申請日: 2017-05-18
• 公開（公告）號: CN107121786B
• 公開（公告）日: 2019-07-19
• 發明（設計）人: 閆興鵬;嚴志強;蘇健;蔣曉瑜;王特;陳祎貝;劉軍輝;陳卓;汪熙
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍裝甲兵工程學院
• 主分類號: G02B27/22
• 分類號: G02B27/22
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種集成成像光場顯示系統透鏡陣列的校準方法，其特征在于，所述集成成像光場顯示系統包括顯示面板(1)、透鏡陣列(2)和定向散射屏(3)，所述顯示面板(1)上加載單元圖像陣列，每一單元圖像與透鏡一一對應，且校準后透鏡的光心與單元圖像的中心橫向重合，單元圖像陣列經透鏡陣列(2)投影后重構出三維場景，在重構三維場景的某一平面放置定向散射屏(3)，提高了定向散射屏(3)后一段深度范圍內的人眼觀看的集成成像的可視分辨率；

透鏡陣列(2)中的透鏡在裝配過程中存在誤差，透鏡的間距不為定值，實際透鏡位置會偏離理想透鏡位置，采用以下方法減小透鏡陣列(2)光心位置的橫向偏差：

A.理想透鏡光心與顯示面板(1)上相應單元圖像的中心的連線與定向散射屏(3)會有交點，在定向散射屏(3)上標記出該交點作為參考點，所有的參考點具有相同的間距；

B.在顯示面板(1)上加載校驗圖像，校驗圖像的中心與單元圖像的中心重合，該校驗圖像經實際透鏡后會在定向散射屏(3)上成像，所成像的中心與參考點之間存在偏差，為了在定向散射屏(3)上得到清晰的像，定向散射屏(3)位于透鏡像平面；

C.調整校驗圖像的加載位置，使其逐漸偏離理想透鏡對應單元圖像的中心點，該校驗圖像的中心經實際透鏡后所成像會逐漸逼近定向散射屏(3)上相應的參考點；

D.當校驗圖像經實際透鏡所成像與定向散射屏(3)上參考點重合時，將此時校驗圖像的加載位置作為實際透鏡對應單元圖像的中心點，進而減小透鏡陣列(2)光心位置的橫向偏差。