[發明專利]一種平響應復合濾片及其制備方法

在審

• 申請號: 201710377503.4
• 申請日: 2017-05-25
• 公開（公告）號: CN107219546A
• 公開（公告）日: 2017-09-29
• 發明（設計）人: 車興森;侯立飛;張穎娟;杜華冰;楊軼濛;李志超;楊國洪
• 申請（專利權）人: 中國工程物理研究院激光聚變研究中心
• 主分類號: G01T1/29
• 分類號: G01T1/29;C23C28/02
• 代理公司: 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙)11371
• 代理人: 吳開磊

1.一種平響應復合濾片的制備方法，其特征在于，在第一金層的一側表面上制備具有多孔結構的第二金層，所述第一金層與第二金層相連，得到一種平響應復合濾片；

所述多孔結構的每個孔分別垂直于第一金層與第二金層的相連面，且分別延伸貫通第二金層。

2.根據權利要求1所述的一種平響應復合濾片的制備方法，其特征在于，所述第一金層的厚度為45-55nm，優選為48-52nm，進一步優選為50nm。

3.根據權利要求1所述的一種平響應復合濾片的制備方法，其特征在于，所述第二金層的厚度為370-390nm，優選為375-385nm，進一步優選為380nm。

4.根據權利要求1所述的一種平響應復合濾片的制備方法，其特征在于，所述多孔結構中每個孔的孔徑為4.8-5.2μm，優選為4.9-5.1μm，進一步優選為5μm。

5.根據權利要求1所述的一種平響應復合濾片的制備方法，其特征在于，所述多孔結構為多孔陣列結構；

優選地，所述多孔陣列結構的周期為10.8-11.2μm，優選為10.9-11.1μm，進一步優選為10.9μm。

6.根據權利要求1所述的一種平響應復合濾片的制備方法，其特征在于，在襯底上制備腐蝕阻擋層，在腐蝕阻擋層上制備第一金層，在第一金層上制備光刻膠模板，通過光刻膠模板在第一金層上制備第二金層，加熱退火，分別除去光刻膠模板、襯底和腐蝕阻擋層，得到一種平響應復合濾片。

7.根據權利要求6所述的一種平響應復合濾片的制備方法，其特征在于，所述在襯底上制備腐蝕阻擋層，在腐蝕阻擋層上制備第一金層包括：將襯底加熱，在襯底上涂覆制備得到腐蝕阻擋層，在所得腐蝕阻擋層上磁控濺射得到第一金層；

優選地，所述襯底為硅片；

優選地，所述加熱的溫度為140℃以上，優選為140-160℃，進一步優選為150℃；

優選地，所述加熱的時間為10min以上，優選為10-20min，進一步優選為15min；

優選地，所述腐蝕阻擋層的厚度為1.5μm以上，優選為1.5-2μm，進一步優選為1.7μm；

優選地，所述腐蝕阻擋層為聚酰亞胺腐蝕阻擋層；

進一步優選地，在襯底上涂覆聚酰亞胺后進行酰亞胺化處理，在所得聚酰亞胺腐蝕阻擋層上磁控濺射得到第一金層；

可選地，所述硅片采用酸溶液腐蝕除去；

優選地，所述酸溶液包括氫氟酸和硝酸的混合溶液；

進一步優選地，所述氫氟酸和硝酸的混合溶液中，氫氟酸和硝酸的體積比為2-4：1，優選為3：1；

可選地，所述聚酰亞胺腐蝕阻擋層采用等離子體刻蝕除去；

優選地，刻蝕氣體包括六氟化硫和氧氣；

進一步優選地，所述六氟化硫的流量為8sccm以上，優選為8-12sccm，進一步優選為10sccm；

進一步優選地，所述氧氣的流量為150sccm以上，優選為150-170sccm，進一步優選為160sccm；

優選地，上電極功率為350W以上，優選為350-450W，進一步優選為400W；

優選地，下電極功率為30W以上，優選為30-50W，進一步優選為40W。

8.根據權利要求6所述的一種平響應復合濾片的制備方法，其特征在于，所述加熱退火的溫度為120℃以上，優選為120-200℃，進一步優選為150℃；

優選地，所述加熱退火的時間為30min以上，優選為30-240min，進一步優選為60min。