[發(fā)明專利]一種基于吸收光譜技術(shù)的雙頻率波長調(diào)制方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710377115.6 | 申請日: | 2017-05-24 |
| 公開(公告)號: | CN107247034B | 公開(公告)日: | 2019-11-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 周賓;王浩;程禾堯 | 申請(專利權(quán))人: | 東南大學(xué) |
| 主分類號: | G01N21/39 | 分類號: | G01N21/39;H01S5/06 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 李倩 |
| 地址: | 211189 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 吸收光譜 技術(shù) 雙頻 波長 調(diào)制 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種基于吸收光譜技術(shù)的雙頻率波長調(diào)制方法,該方法在傳統(tǒng)波長調(diào)制信號的基礎(chǔ)上疊加了另一高頻正弦信號,針對該種激光激勵方式建立了雙頻率波長調(diào)制的傅里葉分析模型,理論推導(dǎo)了各次諧波表達(dá)式,研究了不同調(diào)制參數(shù)對諧波信號的影響并通過全局尋優(yōu)算法確定了最佳調(diào)制參數(shù)。在此基礎(chǔ)上,確定了雙頻率波長調(diào)制頻率響應(yīng)關(guān)系的函數(shù)表達(dá)式。相比于傳統(tǒng)單頻率波長調(diào)制方法,本發(fā)明提出的測量方法具有更高的信噪比,測量結(jié)果的穩(wěn)定性更強(qiáng),并且在弱吸收情況下的諧波峰值位置更易于判斷,具有更大的應(yīng)用潛力,本發(fā)明方法僅改變了激光器的注入電流激勵方式,對硬件成本要求低,并可應(yīng)用于多次反射池等系統(tǒng)進(jìn)一步降低氣體濃度的檢測下限。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種基于吸收光譜技術(shù)的雙頻率波長調(diào)制方法,用于氣體濃度測量,屬于激光吸收光譜技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜技術(shù)(Tunable Diode Laser AbsorptionSpectroscopy,TDLAS)充分利用了分布反饋式激光器的窄線寬和可調(diào)諧特性,實現(xiàn)了氣體分子單根吸收譜線的快速掃描和測量,具有檢測下限低、靈敏度高、響應(yīng)速度快、非侵入等優(yōu)點,已被廣泛應(yīng)用于近紅外波段的痕量氣體探測、環(huán)境保護(hù)與污染排放監(jiān)測、燃煤鍋爐的燃燒診斷和航空航天發(fā)動機(jī)檢測等方面。然而由于大多數(shù)分子的振轉(zhuǎn)帶位于紅外頻譜區(qū),而該波段內(nèi)分子的吸收強(qiáng)度較弱,探測靈敏度低,因而改善目標(biāo)氣體檢測系統(tǒng)的信噪比,提高系統(tǒng)的檢測靈敏度已成為TDLAS技術(shù)的重要研究方向之一。
國內(nèi)外學(xué)者對提高TDLAS技術(shù)探測靈敏度進(jìn)行了一系列研究,如使用多次反射池增加吸收光程、對采集信號使用特殊的運算法則進(jìn)行數(shù)據(jù)處理等常規(guī)方式。目前高靈敏度的光譜調(diào)制技術(shù)在提高痕量氣體檢測信噪比方面得到了廣泛應(yīng)用,該方法利用了透射光強(qiáng)在高頻調(diào)制頻率分量上的強(qiáng)度信息,可以抑制低頻背景噪聲對微弱吸收信號影響,從而顯著提高探測靈敏度。如波長調(diào)制光譜技術(shù)(Wavelength Modulation Spectroscopy,WMS)和頻率調(diào)制光譜技術(shù)(Frequency Modulation Spectroscopy,F(xiàn)MS)。兩者的主要差別在于調(diào)制頻率與調(diào)制幅度上,F(xiàn)MS對光電探測器的響應(yīng)速度、信號發(fā)生及采集系統(tǒng)采樣率等硬件要求較高。FMS和WMS多應(yīng)用于氣體的標(biāo)定檢測,需要在已知的體系中校準(zhǔn),這在大多數(shù)環(huán)境中是難以實現(xiàn)的。此外,氣體溫度、壓力及標(biāo)準(zhǔn)具效應(yīng)(平行平面產(chǎn)生的干涉條紋)發(fā)生變化時給所測氣體參數(shù)帶來極大的不確定性,不適合現(xiàn)場惡劣的測量環(huán)境。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種基于吸收光譜技術(shù)的雙頻率波長調(diào)制方法,該方法具有高的信噪比和檢測靈敏度,能夠?qū)崿F(xiàn)良好的測量穩(wěn)定性。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明所采用的技術(shù)手段為:
一種基于吸收光譜技術(shù)的雙頻率波長調(diào)制方法,該方法包括如下步驟:
步驟1,對雙頻率波長調(diào)制的激光激勵方式進(jìn)行傅里葉分析,理論推導(dǎo)出n次諧波的X和Y方向分量,對應(yīng)的表達(dá)式為:
式(1)和式(2)中,為未加調(diào)制時的激光器光強(qiáng),Hk、Jk為k次傅里葉系數(shù),i1,k、i2,k分別為k次光強(qiáng)調(diào)制頻率f1、f2對應(yīng)的傅里葉系數(shù),為分別對應(yīng)的k次光強(qiáng)調(diào)制的初始相角;其中,R=f2/f1,δnk為符號函數(shù),當(dāng)n=k時,其值為1,否則為0,sgn(x)為符號函數(shù),表示當(dāng)x>0時,其值為1,當(dāng)x<0,其值為-1,x=0時,其值為0;
當(dāng)吸收為零,即滿足τ(t)=0時,Hk=δk0,Jk=0,代入式(1)、(2),得到無吸收時的X分量和Y分量的表達(dá)式為:
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于東南大學(xué),未經(jīng)東南大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710377115.6/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 防止技術(shù)開啟的鎖具新技術(shù)
- 技術(shù)評價裝置、技術(shù)評價程序、技術(shù)評價方法
- 防止技術(shù)開啟的鎖具新技術(shù)
- 視聽模擬技術(shù)(VAS技術(shù))
- 用于技術(shù)縮放的MRAM集成技術(shù)
- 用于監(jiān)測技術(shù)設(shè)備的方法和用戶接口、以及計算機(jī)可讀存儲介質(zhì)
- 用于監(jiān)測技術(shù)設(shè)備的技術(shù)
- 技術(shù)偵查方法及技術(shù)偵查系統(tǒng)
- 使用投影技術(shù)增強(qiáng)睡眠技術(shù)
- 基于技術(shù)庫的技術(shù)推薦方法





