[發(fā)明專(zhuān)利]蒸鍍坩堝熱場(chǎng)控制裝置及蒸鍍系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710375010.7 | 申請(qǐng)日: | 2017-05-24 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN106987810A | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-07-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 宋建華 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 昆山國(guó)顯光電有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C14/26 | 分類(lèi)號(hào): | C23C14/26;C23C14/54 |
| 代理公司: | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司44224 | 代理人: | 唐清凱 |
| 地址: | 215300 江蘇省*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 坩堝 控制 裝置 系統(tǒng) | ||
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- 同類(lèi)專(zhuān)利
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 光源裝置、照明裝置、液晶裝置和電子裝置
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