[發明專利]密封組合結構、移動終端和密封組合結構的加工方法

有效

• 申請號: 201710374793.7
• 申請日: 2017-05-24
• 公開（公告）號: CN107172236B
• 公開（公告）日: 2020-01-07
• 發明（設計）人: 俞昌國;田愛彬
• 申請（專利權）人: 維沃移動通信有限公司
• 主分類號: H04M1/02
• 分類號: H04M1/02;H04M1/18;H05K5/06
• 代理公司: 11319 北京潤澤恒知識產權代理有限公司
• 代理人: 王洪

1.一種密封組合結構，其特征在于，所述密封組合結構包括密封件以及采用形狀記憶合金制成的支撐件，所述支撐件存在高溫相和低溫相；

所述密封件的外側壁設有凸筋，所述密封件的內側壁設有低溫相的支撐件；

所述支撐件受熱后向高溫相變形并抵頂所述密封件的內側壁；

其中，所述密封組合結構應用于包括電池蓋、功能部件、主板上蓋的移動終端。

2.根據權利要求1所述的密封組合結構，其特征在于，所述支撐件的高溫相呈波浪形狀，所述波浪形狀支撐件的波谷部位的位置高于兩末端部分的位置；

所述支撐件的低溫相為平板狀。

3.根據權利要求2所述的密封組合結構，其特征在于，所述密封件的設有低溫相支撐件的內側壁呈平展狀。

4.根據權利要求1所述的密封組合結構，其特征在于，所述支撐件的高溫相呈中間部分是波浪形狀、兩末端部分是反向平板狀，所述中間部分的波谷部位的位置高于兩末端部分的位置；

所述支撐件的低溫相呈中間部分是平板狀、兩端為向同向彎折狀，且與所述密封件內側壁相配合部分的彎曲角度一致。

5.根據權利要求4所述的密封組合結構，其特征在于，所述密封件的設有低溫相支撐件的內側壁呈凹臺狀。

6.根據權利要求1所述的密封組合結構，其特征在于，所述支撐件的材質為單程記憶效應的合金。

7.根據權利要求6所述的密封組合結構，其特征在于，所述單程記憶效應的合金包括鎳－鈦合金、金－鎘合金或銅－鋅合金。

8.根據權利要求1所述的密封組合結構，其特征在于，所述形狀記憶合金為管狀、棒狀或板狀。

9.根據權利要求8所述的密封組合結構，其特征在于，所述支撐件為鈑金沖壓件，厚度為0.10mm-20mm。

10.根據權利要求1所述的密封組合結構，其特征在于，所述密封件的內側壁上與所述凸筋對應的部位設有低溫相的支撐件。

11.根據權利要求1所述的密封組合結構，其特征在于，所述密封件的外側壁上縱向或周圈設置有凸筋。

12.根據權利要求1所述的密封組合結構，其特征在于，所述密封件為硅膠套。

13.一種移動終端，其特征在于，包括：電池蓋、功能部件、主板上蓋和權利要求1-12中任一項所述的密封組合結構，所述密封組合結構包括密封件以及采用形狀記憶合金制成的支撐件，所述支撐件存在高溫相和低溫相；

所述密封件的外側壁設有凸筋，所述密封件的內側壁設有低溫相的支撐件；

所述支撐件受熱后向高溫相變形并抵頂所述密封件的內側壁。

14.一種密封組合結構的加工方法，其特征在于，包括：

制備密封件，所述密封件的外側壁設有凸筋；

采用形狀記憶合金制備低溫相支撐件；

將所述低溫相支撐件設置于密封件的內側壁，得到所述密封組合結構；

對所述密封組合結構加熱；

其中，所述密封組合結構應用于包括電池蓋、功能部件、主板上蓋的移動終端。

15.根據權利要求14所述的加工方法，其特征在于，所述采用形狀記憶合金制備低溫相支撐件的步驟包括：

在低溫狀態下，將所述形狀記憶合金沖壓制成平板狀的支撐件。

16.根據權利要求14所述的加工方法，其特征在于，所述采用形狀記憶合金制備低溫相支撐件的步驟包括：

在低溫狀態下，通過沖壓方法和彎折成型方法將所述形狀記憶合金制成中間部分為平板狀、兩端部分為同向彎折狀的支撐件；其中，所述支撐件兩端的彎曲角度與所述密封件配合部分彎曲角度一致。