[發明專利]一種X射線熒光分析裝置及其分析檢測方法

有效

• 申請號: 201710374634.7
• 申請日: 2017-05-24
• 公開（公告）號: CN106996941B
• 公開（公告）日: 2020-12-15
• 發明（設計）人: 孫學鵬;孫天希;劉志國;尚宏忠;張豐收
• 申請（專利權）人: 北京市輻射中心;北京師范大學
• 主分類號: G01N23/223
• 分類號: G01N23/223
• 代理公司: 北京德崇智捷知識產權代理有限公司 11467
• 代理人: 劉小靜

1.一種適用于微區全反射的X射線熒光分析裝置，其特征在于，包括 X光源，采用50微米微焦斑銅靶光源用于發射X射線； 調控裝置，用于聚焦X射線形成焦斑； 準直器，設置在X光源和調控裝置之間； 樣品架，用于放置待測樣品，并將待測樣品設置在焦斑處； 熒光探測裝置，用于接收待測樣品與X射線產生的二次熒光信號；所述調控裝置的入口端與準直器對準，準直器的直徑小于調控裝置的入口端面的直徑； 所述調控裝置為橢球型單毛細管X光透鏡，橢球度為0～1％，所述入口端面和出口端面的直徑比為100:60；入口焦距為250mm，軸向長度為249.5mm；

所述調控裝置的中心線與樣品架平面之間的夾角小于X射線與樣品架的全反射臨界角θc，還有兩個狹縫垂直設置于橢球管入射端面之前，所述狹縫寬度大于橢球管入射端面內直徑小于外直徑。

2.根據權利要求1所述的一種適用于微區全反射的X射線熒光分析裝置，其特征在于，所述調控裝置為硅酸鹽玻璃或鉛玻璃材質。

3.根據權利要求1所述的一種適用于微區全反射的X射線熒光分析裝置，其特征在于，所述入口端面的直徑為50～2000μm，出口端面的直徑為4～50μm。

4.根據權利要求1所述的一種適用于微區全反射的X射線熒光分析裝置，其特征在于，所述X光源的焦斑置于調控裝置的前焦斑處，待檢測樣品置于調控裝置的后焦斑處。

5.一種微區全反射X射線熒光分析方法，其特征在于，通過權利要求1～4任意一項所述適用于微區全反射的X射線熒光分析裝置來進行分析檢測。