[發(fā)明專利]光刻機的照明系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710374065.6
• 申請日: 2017-05-24
• 公開（公告）號: CN108931888B
• 公開（公告）日: 2020-12-18
• 發(fā)明（設計）人: 劉玄
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司;中芯國際集成電路制造（北京）有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市磐華律師事務所 11336
• 代理人: 高偉;劉愛平

1.一種光刻機的照明系統(tǒng)，其特征在于，包括：

第一光源，其所產(chǎn)生的光束通過微反射鏡陣列之后變?yōu)榈谝还馐?/p>

第二光源，其所產(chǎn)生的第二光束與所述第一光束進行耦合，以實現(xiàn)光照增強；

合束器，所述合束器包括共焦放置的凹面鏡和凸面鏡，以用于所述耦合；

陣列式光闌，置于所述第二光源與所述合束器之間，用于控制所述第二光束進入所述合束器中的光束區(qū)域。

2.如權利要求1所述的照明系統(tǒng)，其特征在于，

所述第一光束和所述第二光束平行地入射到所述凹面鏡上，經(jīng)所述凸面鏡和所述凹面鏡的多次反射后產(chǎn)生重合的輸出光束，作為耦合之后的光束。

3.如權利要求1所述的照明系統(tǒng)，其特征在于，所述凹面鏡的曲率半徑表示為R₁，所述凸面鏡的曲率半徑表示為R₂，其中，R₁與R₂的比值是預設的，以使得入射光束經(jīng)所述合束器后的縮小倍率大于或等于1.5且小于或等于2。

4.如權利要求1所述的照明系統(tǒng)，其特征在于，所述陣列式光闌包括多個子光闌，通過調節(jié)所述多個子光闌的打開或閉合狀態(tài)，控制所述第二光束進入所述合束器中的光束區(qū)域。

5.如權利要求1所述的照明系統(tǒng)，其特征在于，所述陣列式光闌的朝向所述第二光束的表面覆有吸收涂層。

6.如權利要求1至5中任一項所述的照明系統(tǒng)，其特征在于，還包括衰減片陣列，用于對耦合之后的光束進行衰減。

7.如權利要求6所述的照明系統(tǒng)，其特征在于，所述衰減片陣列包括多組衰減片，所述多組衰減片中的不同組衰減片具有相同或不同的衰減率。