[發(fā)明專利]制造含孔隙的不透明石英玻璃的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710373815.8
• 申請日: 2017-05-24
• 公開（公告）號: CN107417071B
• 公開（公告）日: 2021-08-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: C.申克;G.沙伊希;N.曹利奇
• 申請（專利權(quán)）人: 賀利氏石英玻璃股份有限兩合公司
• 主分類號: C03B19/06
• 分類號: C03B19/06;C03C3/06
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 石克虎;羅文鋒

1.制造含孔隙的不透明石英玻璃的方法，其包含以下方法步驟：

(a) 通過非晶的、合成生產(chǎn)的SiO₂初級粒子的附聚制造多孔SiO₂顆粒狀粒子，

(b) 熱致密化所述多孔SiO₂顆粒狀粒子以形成部分致密化的SiO₂顆粒狀粒子，

(c) 形成含有分散液體和分散在其中的部分致密化的SiO₂顆粒狀粒子的分散體，

(d) 研細(xì)所述分散體中的至少一部分所述部分致密化的SiO₂顆粒狀粒子以形成含有研細(xì)的SiO₂顆粒狀粒子的粉漿，

(e) 將所述粉漿成型為成型體和除去分散液體以形成具有生坯密度ρG的多孔SiO₂生坯，和

(f) 將所述多孔SiO₂生坯燒結(jié)成所述含孔隙的不透明石英玻璃，

其特征在于

(i) 在方法步驟(b)的熱致密化過程中，制造具有通過BET吸附測量測定的0.025至2.5平方米/克的比表面積BET-(A)的部分致密化的SiO₂顆粒狀粒子，和

(ii) 在方法步驟(d)的研細(xì)過程中，制造具有通過BET吸附測量測定的4至10平方米/克的比表面積BET-(B)的研細(xì)的SiO₂顆粒狀粒子，和

(iii) 其中比表面積BET-(A)和BET-(B)之間的差異為4至7.5平方米/克。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于在熱致密化過程中，制造具有通過BET吸附測量測定的小于0.8平方米/克的比表面積的部分致密化的SiO₂顆粒狀粒子。

3.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于所述部分致密化的SiO₂顆粒狀粒子在根據(jù)方法步驟(d)研細(xì)前在800℃至1300℃的溫度下部分致密化以使所述部分致密化的SiO₂顆粒狀粒子具有通過BET吸附測量測定的≤ 0.25平方米/克的比微孔表面積。

4.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于所述SiO₂顆粒狀粒子在根據(jù)方法步驟(d)研細(xì)前在800℃至1300℃的溫度下部分致密化以使所述部分致密化的SiO₂顆粒狀粒子具有通過BET吸附測量測定的≤ 0.1平方米/克的比微孔表面積。

5.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于所述研細(xì)的SiO₂顆粒狀粒子具有通過D₁₀值D₁₀(B) 5微米和D₉₀值D₉₀(B) 50微米限定的最終粒度分布。

6.根據(jù)權(quán)利要求5的方法，其特征在于所述研細(xì)的SiO₂顆粒狀粒子以通過D₁₀值D₁₀(A) 15微米和D₉₀值D₉₀(A) 105微米限定的初始粒度分布分散在所述分散體中。

7.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于至少80%的粒度大于5微米的所述研細(xì)的SiO₂顆粒狀粒子具有裂片形態(tài)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7的方法，其特征在于至少90%的粒度大于5微米的所述研細(xì)的SiO₂顆粒狀粒子具有裂片形態(tài)。

9.根據(jù)前述權(quán)利要求1至8之一的方法，其特征在于所述粉漿在成型為成型體的同時含有至少70%重量百分比的SiO₂粒子。

10.根據(jù)前述權(quán)利要求1至8之一的方法，其特征在于所述粉漿在成型為成型體的同時含有至少75%重量百分比的SiO₂粒子。