[發明專利]顯影盒有效
| 申請號: | 201710372621.6 | 申請日: | 2017-05-24 |
| 公開(公告)號: | CN107728445B | 公開(公告)日: | 2021-10-29 |
| 發明(設計)人: | 板橋奈緒 | 申請(專利權)人: | 兄弟工業株式會社 |
| 主分類號: | G03G15/08 | 分類號: | G03G15/08 |
| 代理公司: | 北京航忱知識產權代理事務所(普通合伙) 11377 | 代理人: | 陳立航 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯影 | ||
1.一種顯影盒,包括:
顯影輥;
殼體,被構成為在所述殼體中容納顯影劑;
存儲介質,包括電接觸面;
保持部,能夠在與所述電接觸面交叉的第一方向上與所述電接觸面一起移動,所述保持部能夠在第一位置與第二位置之間相對于所述殼體在所述第一方向上移動;
施壓構件,被構成為在所述保持部在所述第一位置與所述第二位置之間移動的情況下,在所述施壓構件在與所述第一方向交叉的第二方向上移動的同時,對所述保持部施壓;
蓋,固定在所述殼體的外表面,所述蓋的一部分用作將所述保持部保持在所述蓋與所述殼體的所述外表面之間的保持部殼體;以及
施力構件,被構成為對所述施壓構件施力,所述施力構件在所述第二方向上具有第一狀態和第二狀態,所述施力構件在所述第二方向上具有一端和另一端,所述一端安裝在所述蓋,所述另一端安裝在所述施壓構件,
在所述第一狀態下所述一端與所述另一端之間的距離大于在所述第二狀態下所述一端與所述另一端之間的距離,
在所述保持部位于所述第一位置的情況下所述電接觸面與所述施壓構件之間在所述第一方向上的距離大于在所述保持部位于所述第二位置的情況下所述電接觸面與所述施壓構件之間在所述第一方向上的距離,
在所述施力構件處于所述第一狀態的情況下,所述保持部位于所述第一位置,
在所述施力構件處于所述第二狀態的情況下,所述保持部位于所述第二位置。
2.根據權利要求1所述的顯影盒,其特征在于,所述蓋包括第一引導面,所述第一引導面在所述第二方向上延伸,被構成為引導所述施壓構件,所述第一引導面相對于所述施壓構件位于與所述保持部相反的位置。
3.根據權利要求2所述的顯影盒,其特征在于,在所述施力構件處于所述第一狀態的情況下,所述施壓構件夾在所述保持部與所述第一引導面之間。
4.根據權利要求3所述的顯影盒,其特征在于,所述第一引導面包括相對于所述第二方向傾斜的傾斜引導面,所述傾斜引導面隨著在所述第二方向上與所述施力構件的所述一端的距離增加而在所述第一方向上靠近所述保持部。
5.根據權利要求1~4中任一項所述的顯影盒,其特征在于,所述保持部包括相對于所述第一方向和所述第二方向傾斜的第一傾斜面,
所述施壓構件包括面對所述第一傾斜面的第二傾斜面,在所述施力構件處于所述第一狀態的情況下,所述第一傾斜面和所述第二傾斜面彼此接觸。
6.根據權利要求5所述的顯影盒,其特征在于,所述第一傾斜面相對于所述第一方向在30度~60度的范圍傾斜。
7.根據權利要求1~4中任一項所述的顯影盒,其特征在于,所述保持部和所述施壓構件中的一個包括凸面,所述凸面被構成為與所述保持部和所述施壓構件中的另一個接觸。
8.根據權利要求1~4中任一項所述的顯影盒,其特征在于,所述蓋包括在所述第一方向上延伸的第二引導面,所述保持部能夠沿著所述第二引導面在所述第一方向上移動。
9.根據權利要求1~4中任一項所述的顯影盒,其特征在于,所述施力構件是能夠在所述第一狀態與所述第二狀態之間伸展和收縮的彈性構件。
10.根據權利要求9所述的顯影盒,其特征在于,所述彈性構件是能夠在所述一端與所述另一端之間在所述第二方向上伸展和收縮的彈簧。
11.根據權利要求1~4中任一項所述的顯影盒,其特征在于,所述施力構件包括第一磁體和第二磁體,所述第一磁體固定在所述蓋的與所述一端相對應的位置,所述第二磁體固定在所述施壓構件的與所述另一端相對應的位置,所述第一磁體和所述第二磁體被構成為產生磁性排斥力,從而對所述施壓構件施力。
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