[發明專利]配置為使用電磁輻射從基板移除涂層的系統有效
| 申請號: | 201710368046.2 | 申請日: | 2012-10-22 |
| 公開(公告)號: | CN107414307B | 公開(公告)日: | 2020-04-10 |
| 發明(設計)人: | 唐納德·E·斯普倫塔爾;基思·A·杰弗里斯 | 申請(專利權)人: | 蘇爾清潔公司 |
| 主分類號: | B23K26/36 | 分類號: | B23K26/36 |
| 代理公司: | 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262 | 代理人: | 張瑞;鄭霞 |
| 地址: | 美國密*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 配置 使用 電磁輻射 基板移 涂層 系統 | ||
1.一種移除系統,其被配置為從組件的基板移除涂層,所述系統包括:
第一能量源,其被配置為被以第一功率水平賦能,以將第一電磁輻射流引導到所述組件上,以便所述第一電磁輻射流產生所述組件上的第一特性;
第二能量源,其被配置為被以第二功率水平賦能,以將第二電磁輻射流引導到所述組件上,以便所述第二電磁輻射流產生所述組件上的第二特性;
傳感器,其被配置為檢測由所述第一電磁輻射流和所述第二電磁輻射流產生的所述第一特性和所述第二特性;
控制器,其可操作地連接到所述第一能量源和所述第二能量源以及所述傳感器;
其中,所述控制器被配置為從所述傳感器接收檢測到的所述第一特性和所述第二特性,以及從分別的所述第一能量源和所述第二能量源接收相關的所述第一功率水平和所述第二功率水平;以及
其中,所述控制器被配置為響應于從所述傳感器接收的所述第一特性和所述第二特性以及從所述第一能量源和所述第二能量源接收的相關的所述功率水平,將更新的第一功率水平和第二功率水平發送到所述第一能量源和所述第二能量源中的至少一個能量源。
2.如權利要求1所述的移除系統,其中所述第一能量源被配置為將所述第一電磁輻射流引導到所述組件上,以便產生的所述第一特性表示所述涂層從所述基板的移除。
3.如權利要求2所述的移除系統,其中所述第二能量源被配置為將所述第二電磁輻射流引導到所述組件上,以便產生的所述第二特性表示所述涂層是否存在于所述基板上。
4.如權利要求3所述的移除系統,還包括功率源,該功率源可操作地連接到所述第一能量源和所述第二能量源;
其中,所述控制器是閉環過程控制器,該閉環控制器配置為從所述傳感器和所述功率源接收輸入;以及
其中,所述控制器被配置為響應于從所述傳感器和所述功率源接收的輸入,為所述功率源中的至少一個提供信號,以控制由所述第一能量源和所述第二能量源中的至少一個所發射的功率。
5.如權利要求4所述的移除系統,其中所述傳感器是光學傳感器和光譜分析器之一。
6.如權利要求1所述的移除系統,其中所述第一特性和所述第二特性包括波長和強度。
7.一種從組件的基板移除涂層的方法,所述方法包括:
將第一電磁輻射流從第一能量源引導到所述組件上;其中所述第一能量源被以第一功率水平賦能,以便所述第一電磁輻射流使第一特性在所述組件上產生;
將第二電磁輻射流從處在第二功率水平的第二能量源引導到所述組件上,以便所述第二電磁輻射流使第二特性在所述組件上產生;其中所述第二能量源被以第二功率水平賦能,以便所述第二電磁輻射流使第二特性在所述組件上產生;
檢測所述組件的第一特性以及所述第一能量源的相關的所述第一功率水平;
檢測所述組件的第二特性以及所述第二能量源的相關的所述第二功率水平;
將檢測到的所述第一特性和所述第二特性以及相關的所述第一功率水平和所述第二功率水平中的至少一個發送給控制器;
根據檢測到的所述第一特性和所述第二特性,在所述控制器中確定所述涂層是否布置在所述組件的基板上;以及
響應于確定所述涂層是否被布置在所述基板上,將更新的功率水平發送到所述第一能量源和所述第二能量源中的至少一個能量源。
8.如權利要求7所述的方法,其中,產生的所述第一特性表示所述涂層從所述基板的移除。
9.如權利要求8所述的方法,其中,產生的所述第二特性表示所述涂層是否存在于所述基板上。
10.如權利要求9所述的方法,還包括:
從傳感器和所述功率源接收輸入;以及
響應于從所述傳感器和所述功率源接收的輸入,為所述第一能量源和所述第二能量源中的至少一個能量源提供信號,以控制功率的發射。
11.如權利要求10所述的方法,其中所述傳感器是光學傳感器和光譜分析器之一。
12.如權利要求7所述的方法,其中所述第一特性和所述第二特性包括波長和強度。
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