[發明專利]制備陰極環防反射膜用的掩膜及其使用方法有效
申請號: | 201710365617.7 | 申請日: | 2017-05-22 |
公開(公告)號: | CN107403874B | 公開(公告)日: | 2020-03-17 |
發明(設計)人: | 茆勝 | 申請(專利權)人: | 茆勝 |
主分類號: | H01L51/52 | 分類號: | H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 深圳市瑞方達知識產權事務所(普通合伙) 44314 | 代理人: | 王少虹;許國興 |
地址: | 廣東省深圳市福田區*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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摘要: | |||
搜索關鍵詞: | 制備 陰極 反射 及其 使用方法 | ||
1.一種制備陰極環防反射膜用的掩膜,其特征在于,包括掩膜版,所述掩膜版為合金板;所述掩膜版上設有對應顯示器(1)上顯示區(3)的遮擋部(10)、對應顯示器(1)上陰極環(2)的鏤空部(20),所述遮擋部(10)位于所述掩膜版的中部,所述鏤空部(20)環繞在所述遮擋部(10)的外圍;
位于所述鏤空部(20)外圍的掩膜版部分形成所述掩膜版的外圈部(30);所述掩膜版上還設有加強筋(40);所述加強筋(40)穿過所述鏤空部(20)連接在所述遮擋部(10)和外圈部(30)之間;所述加強筋(40)的寬度為陰極環寬度的50%-500%;
所述遮擋部(10)的形狀為矩形,所述鏤空部(20)包括四個環繞在所述遮擋部(10)側邊的鏤空區(21),所述加強筋(40)位于相鄰的所述鏤空區(21)之間并連接在所述遮擋部(10)的對角處;每一所述鏤空區(21)的兩端不伸出其相鄰的兩個所述鏤空區(21)相背的一側,且所述鏤空區(21)的位于所述加強筋(40)兩側的端部均為尖頭結構;所述掩膜版上還設有至少一個墊高部(50);所述墊高部(50)位于所述外圈部(30)上,用于將掩膜版撐高在陰極環(2)上,利用PVD成膜的陰影擴散作用,增大防反射膜圖案在所述加強筋(40)遮擋處的擴散區域,使得防反射膜在被所述加強筋(40)遮擋的區域處相互擴散重疊;
所述掩膜版制作時:
在合金板上旋涂光刻膠,并將掩模版圖案光刻在合金板上;掩模版圖案包括對應遮擋部(10)的遮擋區、對應外圈部(30)的邊緣區以及對應加強筋(40)的連接區,連接區連接在遮擋區和邊緣區之間;
用干法或濕法刻蝕將合金板上沒有光刻膠的部分刻穿,刻穿部分形成鏤空部(20),制得掩模版。
2.根據權利要求1所述的掩膜,其特征在于,所述鏤空部(20)的寬度為陰極環(2)寬度的50%-500%。
3.根據權利要求1所述的掩膜,其特征在于,每一所述鏤空區(21)呈一字形。
4.一種權利要求1-3任一項所述的掩膜的使用方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1、將掩膜版放置在顯示器(1)上;其中,所述掩膜版的遮擋部(10)遮擋在顯示器(1)的顯示區(3)上,鏤空部(20)對應在顯示器(1)的陰極環(2)處;
S2、將防反射膜材料透過所述鏤空部(20)沉積在所述陰極環(2)上,形成厚度為1000?的防反射膜(4)。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇