[發(fā)明專利]一種OLED微型顯示器及其陽(yáng)極鍵合方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710365150.6 | 申請(qǐng)日: | 2017-05-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107195801B | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-08-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 茆勝 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 茆勝 |
| 主分類號(hào): | H01L51/56 | 分類號(hào): | H01L51/56;H01L27/32 |
| 代理公司: | 深圳市瑞方達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44314 | 代理人: | 郭方偉;馮小梅 |
| 地址: | 廣東省深圳市福田區(qū)*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 oled 微型 顯示器 及其 陽(yáng)極 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種OLED微型顯示器及其陽(yáng)極鍵合方法,所述OLED微型顯示器的陽(yáng)極鍵合方法包括以下步驟:S1、在絕緣基板上制備凹槽;S2、以銅填埋所述凹槽后,制備銅連接柱;S3、在所述絕緣基板上制備OLED器件,得到預(yù)制OLED發(fā)光單元;S4、將所述預(yù)制OLED發(fā)光單元上的銅連接柱與IC片的正面鍵合,完成OLED微型顯示器的陽(yáng)極鍵合。本發(fā)明通過(guò)預(yù)制OLED發(fā)光單元,再將預(yù)制的OLED發(fā)光單元與IC片鍵合,從而避免出現(xiàn)因陽(yáng)極像素和OLED發(fā)光單元在制備過(guò)程中形成的缺陷導(dǎo)致昂貴的IC片報(bào)廢的問(wèn)題,提高了IC片的利用率,降低了生產(chǎn)成本。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及OLED微型顯示器制造領(lǐng)域,更具體地說(shuō),涉及一種OLED微型顯示器的陽(yáng)極鍵合方法,以及使用這種方法的OLED微型顯示器。
背景技術(shù)
OLED微型顯示器屬于一種硅基顯示器。由于硅基器件優(yōu)良的電學(xué)特性和極細(xì)微的器件尺寸,可以實(shí)現(xiàn)顯示芯片的高度集成化。一般的OLED微型顯示器直接在IC片上制備像素結(jié)構(gòu)和OLED單元,再經(jīng)過(guò)薄膜封裝、蓋片封裝等形式制備成微型顯示器。其中IC片價(jià)格高昂,而像素和OLED單元在制備過(guò)程中形成的缺陷會(huì)導(dǎo)致昂貴的IC片報(bào)廢。為避免此類問(wèn)題,需要設(shè)計(jì)一種改進(jìn)的方法,以提高IC片的利用率,降低生產(chǎn)成本。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題在于,針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷,提供一種可以提高IC片的利用率、降低生產(chǎn)成本的OLED微型顯示器的陽(yáng)極鍵合方法,同時(shí)還提供了一種使用這種方法的OLED微型顯示器。
本發(fā)明解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是:構(gòu)造一種OLED微型顯示器的陽(yáng)極鍵合方法,包括以下步驟:
S1、在絕緣基板上制備凹槽;
S2、以銅填埋所述凹槽后,制備銅連接柱;
S3、在所述絕緣基板上制備OLED器件,得到預(yù)制OLED發(fā)光單元;
S4、將所述預(yù)制OLED發(fā)光單元上的銅連接柱與IC片的正面鍵合,完成OLED微型顯示器的陽(yáng)極鍵合。
優(yōu)選地,所述步驟S1包括:
S11、在所述絕緣基板上制備與所述凹槽對(duì)應(yīng)的圖形;
S12、在所述絕緣基板上根據(jù)所述圖形刻蝕出所述凹槽。
優(yōu)選地,在所述步驟S12中,采用TSV工藝在所述絕緣基板上根據(jù)所述圖形刻蝕出所述凹槽。
優(yōu)選地,在所述步驟S11中,采用光刻法在所述絕緣基板上制備與所述凹槽對(duì)應(yīng)的光膠圖形;
在所述步驟S12中,采用TSV工藝在所述絕緣基板上根據(jù)所述光膠圖形刻蝕出所述凹槽。
優(yōu)選地,在執(zhí)行所述步驟S2前,還包括以下步驟:將所述絕緣基板上的所述圖形除去。
優(yōu)選地,所述步驟S2包括:
S21、采用電鍍法對(duì)所述凹槽進(jìn)行銅填埋;
S22、對(duì)所述絕緣基板的正面和背面分別進(jìn)行CMP工藝,直至所述絕緣基板的正面和背面露出所述銅連接柱。
優(yōu)選地,所述步驟S3包括:
S31、在所述絕緣基板的正面對(duì)應(yīng)所述銅連接柱制備陽(yáng)極電極層;
S32、在所述絕緣基板的正面依次制備OLED層、陰極電極層和密封層,得到所述預(yù)制OLED發(fā)光單元。
優(yōu)選地,所述步驟S4包括:
將所述絕緣基板背面的銅連接柱與所述IC片的正面鍵合,完成OLED微型顯示器的陽(yáng)極鍵合。
優(yōu)選地,在所述步驟S3之后,所述步驟S4之前,還包括:
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