[發(fā)明專利]一種拋光液

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710364578.9
• 申請日: 2017-05-22
• 公開（公告）號: CN107236959A
• 公開（公告）日: 2017-10-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 曹建民
• 申請（專利權(quán)）人: 如皋市下原科技創(chuàng)業(yè)服務(wù)有限公司
• 主分類號: C23F3/06
• 分類號: C23F3/06;C23F3/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于化工材料制備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種拋光液。

背景技術(shù)

隨著社會的進(jìn)步和科技的發(fā)展，不銹鋼金屬制品在工業(yè)、農(nóng)業(yè)以及人們的生活各個領(lǐng)域的運(yùn)用越來越廣泛，同時也給社會創(chuàng)造了越來越大的價值。近幾年，一種薄型不銹鋼基板因其諸多優(yōu)點(diǎn)，例如重量輕、可卷曲、耐高溫制程、耐輻射、阻水阻氧、制造成本低廉及取得方便等，被首選為軟性顯示器基板的理想材料，然而，平板顯示行業(yè)對不銹鋼基板的表面粗糙度要求極高，需對不銹鋼基板進(jìn)行充分的拋光處理。

目前，金屬加工行業(yè)對不銹鋼基板進(jìn)行拋光的方法主要有機(jī)械拋光、化學(xué)拋光和電化學(xué)拋光等。這些方法中，機(jī)械拋光成本較高，成本高在高溫酸洗和機(jī)械拋光所需設(shè)備及其輔料與電耗上；電化學(xué)拋光雖然拋光效果較好，但成本較高，易受電力線分布的限制，影響色澤；化學(xué)拋光成本低、拋光全面，拋光后鏡面光亮，但拋光效果由于所用化學(xué)拋光液配方不同而呈現(xiàn)較多的差異；而應(yīng)用于平板顯示行業(yè)中的不銹鋼基板的拋光處理，既要求運(yùn)行成本低，又要求拋光處理后平滑效果與光亮效果極佳。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是提供一種明顯提高拋光度的拋光液。

本發(fā)明采用的技術(shù)方案為：

一種拋光液，其創(chuàng)新點(diǎn)在于，所述拋光液包括螯合劑、氧化劑、添加劑和蒸餾水，所述拋光液各組分含量為：螯合劑350～400ml/L，氧化劑50～110ml/L，添加劑50～70ml/L，蒸餾水450～600ml/L。

進(jìn)一步的，所述二羧酸，多元羧酸，氨基羧酸，檸檬酸，草酸及其鹽中的至少一種。

進(jìn)一步的，所述氧化劑包括過氧化氫、過氧化氫脲、過硫酸鹽及高碘酸鹽的至少一種。

進(jìn)一步的，所述添加劑包括過硫酸鹽，高碘酸鹽，聚羧酸，有機(jī)多元磷酸中的至少一種。

本發(fā)明的有益效果如下：

本發(fā)明揭示了一種拋光液，拋光液用料合理，配制方便，成本低廉，拋光液拋光處理后的不銹鋼基板表面粗糙度低、拋光全面、鏡面光亮，顯示了極佳的平滑效果和光亮效果。

具體實(shí)施方式

實(shí)施例1

一種拋光液，所述拋光液包括螯合劑、氧化劑、添加劑和蒸餾水，所述拋光液各組分含量為：螯合劑350ml/L，氧化劑50ml/L，添加劑50ml/L，蒸餾水450ml/L。所述二羧酸，多元羧酸，氨基羧酸，檸檬酸，草酸及其鹽中的至少一種。所述氧化劑包括過氧化氫、過氧化氫脲、過硫酸鹽及高碘酸鹽的至少一種。所述添加劑包括過硫酸鹽，高碘酸鹽，聚羧酸，有機(jī)多元磷酸中的至少一種。

實(shí)施例2

一種拋光液，所述拋光液包括螯合劑、氧化劑、添加劑和蒸餾水，所述拋光液各組分含量為：螯合劑400ml/L，氧化劑110ml/L，添加劑70ml/L，蒸餾水600ml/L。所述二羧酸，多元羧酸，氨基羧酸，檸檬酸，草酸及其鹽中的至少一種。所述氧化劑包括過氧化氫、過氧化氫脲、過硫酸鹽及高碘酸鹽的至少一種。所述添加劑包括過硫酸鹽，高碘酸鹽，聚羧酸，有機(jī)多元磷酸中的至少一種。

實(shí)施例3

一種拋光液，所述拋光液包括螯合劑、氧化劑、添加劑和蒸餾水，所述拋光液各組分含量為：螯合劑380ml/L，氧化劑85ml/L，添加劑60ml/L，蒸餾水550ml/L。所述二羧酸，多元羧酸，氨基羧酸，檸檬酸，草酸及其鹽中的至少一種。所述氧化劑包括過氧化氫、過氧化氫脲、過硫酸鹽及高碘酸鹽的至少一種。所述添加劑包括過硫酸鹽，高碘酸鹽，聚羧酸，有機(jī)多元磷酸中的至少一種。

以上所述是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，不能以此來限定本發(fā)明之權(quán)利范圍。應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，對本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，都不脫離本發(fā)明的保護(hù)范圍。