[發明專利]液體噴射頭以及液體噴射裝置

在審

• 申請號: 201710363726.5
• 申請日: 2017-05-22
• 公開（公告）號: CN107415468A
• 公開（公告）日: 2017-12-01
• 發明（設計）人: 小澤欣也;原和彥
• 申請（專利權）人: 精工愛普生株式會社
• 主分類號: B41J2/00
• 分類號: B41J2/00
• 代理公司: 北京金信知識產權代理有限公司11225
• 代理人: 蘇萌萌,許梅鈺

1.一種液體噴射頭，其特征在于，具有噴嘴形成面，所述噴嘴形成面上開口有噴射液體的噴嘴部，

在所述液體噴射頭中，

所述噴嘴部的與所述液體接觸時的帶電性低于所述噴嘴形成面的與所述液體接觸時的帶電性。

2.如權利要求1所述的液體噴射頭，其特征在于，

所述噴嘴部上的每單位面積的氟的量與所述噴嘴形成面上的每單位面積的氟的量相比而較少。

3.如權利要求1所述的液體噴射頭，其特征在于，

所述噴嘴部具有所述液體的噴射方向上的上游側的第一區域和下游側的第二區域，

每單位面積的氟的量按照所述噴嘴形成面、所述第二區域以及所述第一區域的順序而依次變少。

4.如權利要求3所述的液體噴射頭，其特征在于，

所述第二區域被形成在所述噴嘴形成面上，

所述噴嘴部在所述第二區域內開口。

5.如權利要求3所述的液體噴射頭，其特征在于，

含有氟的防液膜被形成在所述噴嘴形成面以及所述第二區域上，

該第二區域上的所述防液膜的厚度與所述噴嘴形成面上的所述防液膜的厚度相比而較薄。

6.如權利要求1所述的液體噴射頭，其特征在于，

所述噴嘴形成面由硅基板或者金屬材料構成，

含有氟的防液膜隔著基底膜而被形成在所述噴嘴形成面上，

所述基底膜具有厚度與其他部分相比而較薄的薄膜區域，

所述噴嘴部在所述薄膜區域內開口。

7.一種液體噴射裝置，其特征在于，具備：

權利要求1至權利要求6中的任意一項所述的液體噴射頭。

8.如權利要求7所述的液體噴射裝置，其特征在于，

具備加壓單元，所述加壓單元對與所述液體噴射頭相比靠上游側的液體供給路徑進行加壓，

通過所述加壓單元對所述液體供給路徑實施的加壓，從而能夠執行從所述液體噴射頭的所述噴嘴部排出液體的清潔處理。

9.如權利要求7所述的液體噴射裝置，其特征在于，具備：

多個所述液體噴射頭，多個所述液體噴射頭從所述噴嘴部噴射的液體的導電率是不同的；

輸送機構，其對所述液體的噴落對象進行輸送，

各個所述液體噴射頭從所述噴落對象的輸送方向上的上游側朝向下游側而以所述液體的導電率從高至低的順序依次配置。

10.如權利要求9所述的液體噴射裝置，其特征在于，

所述輸送機構具有支承體，所述支承體為鼓狀，其通過以將所述噴落對象支承在外周面上的狀態而進行旋轉從而對所述噴落對象進行輸送。