[發(fā)明專利]雕刻工藝品以及雕刻方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710361609.5 | 申請日: | 2017-05-19 |
| 公開(公告)號: | CN107009805A | 公開(公告)日: | 2017-08-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 歐陽文枝 | 申請(專利權(quán))人: | 黔東南州仰啊歐民族服飾有限公司 |
| 主分類號: | B44C3/06 | 分類號: | B44C3/06 |
| 代理公司: | 北京超凡志成知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11371 | 代理人: | 李佳 |
| 地址: | 556000 貴州省黔東南苗族侗族*** | 國省代碼: | 貴州;52 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 雕刻 工藝品 以及 方法 | ||
1.一種雕刻方法,其特征在于,包括:
原木進(jìn)行切割得到平面板材,將所述平面板材固定于硬質(zhì)金屬面板后置于具有0.01~0.1個標(biāo)準(zhǔn)大氣壓的真空設(shè)備內(nèi),在真空設(shè)備內(nèi)的溫度為40~90℃的條件下干燥至含水率為6~8wt%,分離所述硬質(zhì)金屬板材得到木坯料;
采用120~200目的粗砂輪粗磨所述木坯料后,再利用300~360目的細(xì)砂輪細(xì)磨所述木坯料,得到打磨料;
將具有目標(biāo)圖案的模板與打磨料面面貼合固定,以使所述打磨料暴露非雕刻面且待雕刻面被所述模板遮蔽,并用石蠟附著在所述非雕刻面得到掩模料;
分離所述掩模料中的所述模板后,將附著有所述石蠟的所述打磨料浸泡在-40~-30℃的液態(tài)氨中20~40分鐘撈出,自然升溫至室溫,在所述待雕刻面雕刻目標(biāo)圖案,雕刻后在40~60℃下干燥。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雕刻方法,其特征在于,在所述原木進(jìn)行切割得到板材之后,將所述板材固定于硬質(zhì)金屬面板后置于具有0.01~0.1個標(biāo)準(zhǔn)大氣壓的真空設(shè)備內(nèi)之前,還包括將所述切割得到的板材脫水至含水率為9~12wt%。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的雕刻方法,其特征在于,在將所述切割得到的平面板材脫水至含水率為9~12wt%的步驟中,所述平面板材被擠壓保持在兩個平面夾具之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雕刻方法,其特征在于,所述木坯料通過打磨制備所述打磨料的方法包括:采用140~160目的粗砂輪粗磨所述木坯料后,再利用320~340目的細(xì)砂輪細(xì)磨所述木坯料。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的雕刻方法,其特征在于,在用石蠟附著在所述非雕刻面的步驟中,附著于所述非雕刻面的石蠟形成厚度為3~10cm的石蠟層。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的雕刻方法,其特征在于,所述石蠟層的厚度為5~8cm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雕刻方法,其特征在于,分離所述掩模料中的所述模板之后,將附著有所述石蠟的所述打磨料浸泡在-40~-30℃的液態(tài)氨中20~40分鐘之前,還包括附著有所述石蠟的所述打磨料浸泡于濃度為5~10mol/L的鹽酸中15~30秒后撈出。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的雕刻方法,其特征在于,附著有所述石蠟的所述打磨料浸泡于濃度為6mol/L的鹽酸中20秒后撈出。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的雕刻方法,其特征在于,所述打磨料浸泡于濃度為5~10mol/L的鹽酸中15~30秒的過程中,所述鹽酸的溫度20~40℃。
10.一種雕刻工藝品,其特征在于,所述雕刻工藝品根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項所述的雕刻方法制作而成。
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