[發明專利]一種光學薄膜涂布復合機

在審

• 申請號: 201710360432.7
• 申請日: 2017-05-21
• 公開（公告）號: CN106984488A
• 公開（公告）日: 2017-07-28
• 發明（設計）人: 郭峰;王華;陳旭
• 申請（專利權）人: 江蘇金峰輕工裝備有限公司
• 主分類號: B05C1/10
• 分類號: B05C1/10;B05C9/12;B05C11/10;B05D3/14
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及薄膜涂布技術領域，具體為一種光學薄膜涂布復合機。

背景技術

光學薄膜由薄的分層介質構成的，通過界面傳播光束的一類光學介質材料。光學薄膜的應用始于20世紀30年代。現代，光學薄膜已廣泛用于光學和光電子技術領域，制造各種光學儀器。在光學薄膜各個生產工藝中，涂布工藝尤其重要，光學薄膜通過涂布機將化學物品涂覆在薄膜上，以改善、提高薄膜的表面特性、增加薄膜的功能，薄膜表面涂布層性能穩定。目前國內外許多光學薄膜生產線都配有涂布設備，但現有的涂布復合機使用效率不高，涂層不均勻，生產的薄膜質量不穩定；另外，在涂布過程中，涂布溶液往往會與環境接觸面積過大而導致散熱過快，從而使得涂布溶液的溫度降低，大大不利于薄膜表面的成膜品質。

發明內容

本發明的目的在于提供一種結構布置合理，涂層分布均勻無氣泡，降低涂布溶液溫度損失，有效保證薄膜表面成膜質量的光學薄膜涂布復合機，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：

一種光學薄膜涂布復合機，包括涂布機架、涂布機構和電暈處理裝置，所述涂布機架前端設置有電暈處理裝置，涂布機架頂部左側對應電暈處理裝置出口設置有張力測量器，張力測量器右側的涂布機架上依次設置有薄膜導入輥和張力調節輥，張力調節輥下部設置有薄膜展平輥，薄膜展平輥右側上方設置有涂布導向輥，涂布導向輥右側下方位于涂布機架出口處設置有薄膜導出輥，所述涂布導向輥上方對應設置有涂布機構，所述涂布機構包括與涂布機架固定的涂布筒體，涂布筒體下方設置有沿薄膜寬度方向延伸的涂布管體，涂布管體底部沿長度方向分布設置有多個出液孔，涂布管體通過軟管與涂布筒體底部連通，涂布筒體上端通過輸送管道與加熱儲罐底部連通，輸送管道上設置有計量泵。

優選的，所述涂布管體通過管體支架與涂布筒體底部側壁固定連接，涂布管體內部對應各個出液孔覆蓋設置有布料層，涂布管體內部安裝有沿長度方向延伸的電加熱棒。

優選的，所述加熱儲罐內壁上設置有電加熱線圈，加熱儲罐內部設置有攪拌槳，攪拌槳頂部與加熱儲罐上方固定的攪拌電機輸出端驅動連接。

優選的，所述加熱儲罐內壁上位于電加熱線圈上方設置有溫度檢測傳感器。

優選的，所述電暈處理裝置包括電暈處理槽，所述電暈處理槽內部對應進口和出口均設置有導向輥組，兩組導向輥組之間設置中間處理夾送輥組。

優選的，所述導向輥組包括上方的頂部導向輥和位于電暈處理槽內部下端的底部導向輥。

優選的，所述張力調節輥兩端的軸套橫向滑動安裝在涂布機架上，涂布機架上安裝有用于調節張力調節輥橫向位置的絲杠調節機構，絲杠調節機構包括驅動電機、絲杠以及與軸套固定的絲杠螺母。

與現有技術相比，本發明的有益效果是：涂布筒體下方沿薄膜寬度方向延伸的涂布管體，涂布管體底部沿長度方向分布設置有多個出液孔，采用管狀涂布頭，結構設計簡單，涂布出的薄膜均勻，且涂布管體內部對應各個出液孔覆蓋設置有布料層，確保涂布過程無氣泡產生；涂布管體內部安裝有電加熱棒，電加熱棒能夠均勻地對進入涂布管體內涂布溶液進行二次加熱，有利于保持涂布溶液溫度，能夠大大提升薄膜表面成膜質量；利用電暈處理裝置對光學薄膜表面進行初步處理，將被處理的表面分子氧化和極化，離子電擊侵蝕表面，以致增加承印物表面的附著能力，成膜質量可靠穩定。本發明結構布置合理，涂層分布均勻無氣泡，降低涂布溶液溫度損失，有效保證薄膜表面成膜質量。

附圖說明

圖1為一種光學薄膜涂布復合機的結構示意圖；

圖2為一種光學薄膜涂布復合機中涂布筒體與涂布管體連接的結構示意圖。

圖中：1-涂布機架，2-光學薄膜，3-電暈處理槽，4-底部導向輥，5-頂部導向輥，6-中間處理夾送輥組，7-張力測量器，8-薄膜導入輥，9-張力調節輥，10-薄膜展平輥，11-涂布導向輥，12-薄膜導出輥，13-涂布管體，14-軟管，15-管體支架，16-涂布筒體，17-計量泵，18-輸送管道，19-電加熱線圈，20-溫度檢測傳感器，21-攪拌槳，22-攪拌電機，23-加熱儲罐，24-出液孔，25-電加熱棒。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。