[發(fā)明專利]一種細(xì)胞釋放物的探測(cè)器及其探測(cè)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710356636.3 | 申請(qǐng)日： | 2017-05-19 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN107219278B | 公開(kāi)（公告）日： | 2019-04-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 劉愛(ài)萍;邢赟;徐盼舉;王夏華;李敏;李帥帥 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 浙江理工大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào)： | G01N27/30 | 分類(lèi)號(hào)： | G01N27/30;G01N27/327 |
| 代理公司： | 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 33200 | 代理人： | 邱啟旺 |
| 地址： | 310018 浙江省杭*** | 國(guó)省代碼： | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書(shū)： | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū)： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 細(xì)胞 釋放 探測(cè)器 及其 探測(cè) 方法 | ||
1.一種細(xì)胞釋放物的探測(cè)器，其特征在于，包括柔性基底，所述柔性基底的曲率值為0.18，還包括負(fù)載于柔性基底內(nèi)凹面的石墨烯膜，所述石墨烯膜由GO基底和嵌于GO基底中的rGO陣列組成，所述rGO陣列由直徑為20μm圓柱狀的rGO單元構(gòu)成，相鄰兩個(gè)單元的間距為60μm；所述石墨烯膜通過(guò)以下方法負(fù)載于柔性基底上：
(1)以柔性ITO/PET為基底，控制三次旋涂的轉(zhuǎn)速和時(shí)間分別為1000rpm，8000rpm，1000rpm以及 5s，10s，5s，旋涂正性光刻膠，然后在60℃烘膠臺(tái)上烘15min，用直徑為20μm，間隔60μm的掩膜曝光20s，后烘10min，顯影液中顯影8s；
(2)在步驟1處理后的基底上繼續(xù)旋涂4mg/mL的氧化石墨烯溶液6次，每次旋涂GO過(guò)程為800rpm，5s ；3000rpm，30s；1000rpm，5s；使得GO浸潤(rùn)到光刻膠凹槽內(nèi)部，旋涂均勻，得到附著GO的柔性ITO/PET基底；
(3)使用電化學(xué)工作站三電極系統(tǒng)還原附著基底表面的GO，恒電位-1V，還原溶液體系為pH7.4的0.2M PBS，還原50s；
(4)最后，將電化學(xué)還原得到的附著有rGO/GO微電極陣列的柔性ITO/PET基底放在丙酮溶液中沖洗，將光刻膠洗掉，上面的GO薄膜落到柔性ITO/PET基底，即得到圖案化rGO/GO微電極陣列。
2.一種權(quán)利要求1所述的探測(cè)器檢測(cè)細(xì)胞釋放雙氧水的方法，其特征在于，使得細(xì)胞貼附于石墨烯膜上；然后進(jìn)行循環(huán)伏安特性的測(cè)定，電解液為2.5mM K3Fe(CN)6和0.1M KCl的水溶液。
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